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mpb2x5族晶体(m=k, rb = cl, br): re是一种新型激光活性介质，其波长范围从紫外到中红外不等，可用于二极管泵浦的tv放大器。这种材料具有高稀土偏析系数。
更新时间:2024-12-17
硫铟锂（liins2或lis）晶体的非线性特性与aggas2和aggas2相近，但其晶体结构不同。liins2是一种热释电材料，其电光参数是将其用作有效电光材料的基础。
更新时间:2024-12-17
lise 硒铟锂 (lilnse2) nir-ir近红外非线性晶体通过定向凝固生长单晶。典型的生长晶体长约 20 毫米，直径约 10 毫米，呈深红色。晶格常数被确定为a = 7.218 埃， b= 8.441 ?，c = 6.772 ?，粉末 x 射线衍射。通过差热分析确定熔点为904℃。liinse 的能带隙2在室温下，通过光传输测量估计为 1.88 ev。
更新时间:2024-12-17
氟化钙（caf2）是近红外分束器的优xuan材料选择。 我们的caf2具有高的纯度，质量和稠度，并且在所有sio2材料中发现零o-h吸收。 羟基带分束器衬底吸收常常限制在近红外测量中的测量精度。 我们用于caf2分束器的photon pro涂层的带宽被优化以覆盖所有近红外和大多数拉曼区域，包括斯托克斯和反斯托克斯。
更新时间:2024-12-17
nir-tec-20-9-sa tec（thermally-diffused expanded core fiber）光纤技术热膨胀光纤末端的模场直径。这可用于商业si-smf。模场直径在光纤末端增加一倍或三倍，改变折射率分布，减小数值孔径。轴向和间隙位移公差越大，耦合损耗越小。包层直径的较小变化可以插入金属箍并安装连接器(如右图)。
更新时间:2024-12-17
非线性光学晶体三硼酸锂（lib3o5或lbo）具有一系列独te的特性：从vuv到ir的宽透明范围、高光学损伤阈值、高有效非线性系数和非临界相位匹配可用性、非常小的走离(walk-off)。采用改进的高温熔剂法生长lbo晶体。
更新时间:2024-12-17
lgs 是一种最近提出的 ir 新型非线性材料，具有纤锌矿型结构，uv 透射率低至 0.32。opo、opa、dfg 获得 mid-ir。libc 2族晶体具有一组重要的物理参数，如带隙大、二光子吸收低、透光范围宽，包括太赫兹窗口、低群速度失配、高导热率、低热膨胀系数各向异性、等，这导致在宽光谱范围内的可调谐激光系统中有效使用。
更新时间:2024-12-17
lgse是一种新型非线性红外材料，具有纤锌矿型结构，紫外透射率可降至0.38。libc2基团中红外晶体的opo、opa、dfg具有一组重要的物理参数，如带隙大、双光子吸收低、透明范围宽(包括thz窗镜)、群速度失配低、导热系数高、热膨胀系数各向异性低等，从而可以有效应用于宽光谱范围的可调谐激光系统。
更新时间:2024-12-17
增益芯片是用作外腔半导体激光器或可调谐二极管激光器增益介质的半导体元件。增益芯片被用作tls（可调谐光源），它可以使用波长选择滤波器（如衍射光栅）来改变振荡波长。增益芯片类似于激光二极管芯片，不同的是它在一个或两个端面上都有较深的抗反射涂层，大大提高或消除了自激阈值。
更新时间:2024-12-17
cvd金刚石微波太赫兹窗片/透镜/分束镜产品应用● 太赫兹波传输窗片● x射线检测● 红外光学● 外延基片
更新时间:2024-12-17
al2o3 标准带通滤光片 4260nm 直径50mm产品总览标准带通滤光片：带通滤光片用于选择性地传输部分光谱，同时拒绝所有其他波长。spectral system标准带通滤光片设计用于在感兴趣的光谱区域提供最高的透射率，并对相邻波长的不需要的能量进行深度抑制。
更新时间:2024-12-17
dcm-pc 产品将连续啁啾光纤布拉格光栅 (fbg) 的色散补偿能力与普通跳线的简单性相结合。此 dcm 解决方案旨在为寻求简单且经济高效的色散解决方案的系统供应商或运营商提供服务。dcm-pc 适用于广泛的应用领域，从基于基本 tdm 的城域网和区域网到海底 dwdm 终端中的信道或子带特定残余色散补偿。
更新时间:2024-12-17
1000 ℃，不受 emi、微波影响optotemp 2000 专为在恶劣的化学和电气环境中可靠运行而设计，不受微波/射频辐射和等离子体的影响。它可以测量高达 1000 ℃的温度，比竞争光纤温度计所能达到的温度高出近 700 ℃。
更新时间:2024-12-17
蓝宝石是一种耐化学腐蚀和耐刮擦的材料，熔点为 2,072°c。我们提供直径为 75 至 500 μm 的 lhpg 级蓝宝石光纤。此外，还提供通过锥形化实现端部扩大的光纤。这是一个重要特征，因为光纤的柔韧性随直径的 4 次方倒数而变化（例如，100 μm 光纤的柔韧性是 200 μm 光纤的 16 倍）。锥形光纤为用户提供了高吞吐量能力
更新时间:2024-12-17
光谱成像是一种通过二维捕捉物体，获取、分析和显示物体各部分光谱信息的技术。通过对每个部分的数据进行光谱分析，可以获得材料的物理化学信息，并将其显示为图像。该系统由内部开发的内置小型光谱成像单元（spect-100vis）的光谱成像相机、相机控制软件、主要用于可见光范围内光谱成像处理的软件和pc组成。极高分辨率测量和二维颜色测量都是可能的。
更新时间:2024-12-17
精选caf2基材专门为拉曼光谱分析制造. 在进行拉曼光谱分析研究时，研究人员所选的基材有必要尽量减小对实验结果的影响。筱晓光子提供的拉曼级caf2基片是专门为做raman光谱分析的研究人员专门定制。
更新时间:2024-12-17
znse 在红外元器件窗片透镜以及光谱分析atr 棱镜领域有着广泛的应用。硒化锌(zinc selenide)对于co2激光器的元器件也是一种良好的选择。在二氧化碳激光器工作的波段10.6 microns附近有着良好的透射率。硒化锌材料是一种黄色透明的多晶材料, 结晶颗粒大小约为70μm, 透光范围0.5-15μm。
更新时间:2024-12-17
近红外ingaas铟镓砷相机 990swir 400-1700nm产品包括：1） 相机2） usb3.0 电缆 a 型微型 b 连接器电缆，约 3 米3） 专用查看器软件/设备驱动程序cd4） 可选：近红外镜头（c安装镜头）
更新时间:2024-12-17
pulstec该传感器基于shack-hartmann方法，能够实时测量光源和光学像差。它能够测量zernike多项式项(15/24/36)，赛德尔像差因子和一般波前磨损。它还具有干涉条纹、二维/三维相位图、强度分布和点扩散函数等功能。测试结果(好或不好)可以按给定值测量。
更新时间:2024-12-17
zns flir（forward looking infra-red前视红外）用于红外窗口片和热波段（8至14μm）透镜，作为热成像系统（te别是那些遭受恶劣环境）的坚韧的前光学器件。 zns flir等级比zns多光谱等级具有更高的强度。硫化锌通过从锌蒸汽和h 2 s气体合成而产生，经过压片形成片状
更新时间:2024-12-17
耗极低的激光光学器件，对于要求极低损耗的镀膜光学器件应用, 筱晓光子可提供r > 99.995 %、总损失小于10 ppm的反射镜。此类超级反射镜片可用于环形激光器陀螺仪组件或光腔衰荡应用。对超抛光基材加工低吸收、低散射镀膜时，我们会采用改进型ibs镀膜机。
更新时间:2024-12-17
熔融石英透镜针对多种高功率激光应用进行了优化，可作为测试设备中的原型或光束聚焦或准直的标准组件。asphericon 提供由熔融石英制成的非球面，具有三种不同的质量级别，具有优|秀的粗糙度值、7 种不同的涂层以及安装的光学器件。
更新时间:2024-12-17
激光选项可提供高精度的单点聚焦和表面扫描功能，低能量的可见二管激光，发射光源到零件表面，并接受反射光源，以此获得数据。通过激光扫描零件表面，以获得高分辨率的表面轮廓。
更新时间:2024-12-11
ogp® 提供了一整套配合轮廓投影仪和ogp smartscope®影像测量仪的标准夹具，使您能够为高效的检测提供快速准确和经济实用的零件定位。
更新时间:2024-12-11
ogp的影像测量仪激光选项可提供高精度的单点聚焦和表面扫描功能，低能量的可见二管激光，发射光源到零件表面，并接受反射光源，以此获得数据。通过激光扫描零件表面，以获得高分辨率的表面轮廓。
更新时间:2024-12-11
pmgi&lor光刻胶可在数据存储、无线ic和mems等各种应用中实现高产量，金属剥离工艺。 在双层光刻胶层使用时，pmgi和lor将工艺范围扩展到单层光刻胶层所能达到的范围之外，包括高分辨率金属化( 4µm)金属化。这些独特的性能适用于多种材料，可满足客户的各种需要。
更新时间:2024-12-10
dow陶氏 显影液mf-20a mf-300系列 mf-26a mf-319
更新时间:2024-12-10
futurrex 刻蚀工艺负性光刻胶nr7-250p nr9-1000p.
更新时间:2024-12-10
microchem su-8光刻胶是一种基于环氧su-8树脂的环氧型的、近紫外负性光刻胶，该系列光刻胶性能优良，主要用于厚衬底上需要高深宽比时的应用。可对近紫外线（365nm）照射进行光成像，形成的固化膜或微结构具有出色的热稳定和机械稳定性，并耐溶剂和酸碱腐蚀，使其非常适合制造永久性结构，例如像素墙，流体通道和喷嘴，微阵列和垫片等。
更新时间:2024-12-10
az®40 xt的应用始于15-30 µm，在这个厚度范围时，由于n2脱气和再水化延迟时间，使用常规正性光刻胶的光刻工艺变得非常耗时，而az®40 xt可以避免这个问题 。即使对于非常大的光刻胶膜厚度，az®40 xt也只需
更新时间:2024-12-10
az ® 4500系列（az ® 4533和az ® 4562）是正性厚光刻胶，在普通湿法蚀刻和电镀工艺中具有优良的粘附性能.
更新时间:2024-12-10
pmma（聚甲基丙烯酸甲酯）是一种通用的聚合材料，适用于许多成像和非成像微电子系统。pmma光刻胶是将pmma聚合物溶解在诸如苯甲醚之类的安全溶剂中，曝光会导致聚合物链断裂。pmma常用作直写式电子束的高分辨率正性光刻胶，它具有高的分辨率，易于处理和出色的薄膜特性。pmma还可用作晶圆薄化的保护涂层，粘结粘合剂和刻蚀层。
更新时间:2024-12-10
0.1mlpcr单管 pcr耗材本生(天津)健康科技有限公司供应：全系荧光定量pcr耗材，产品包括：pcr单管、八联管、96孔板、384孔板。
更新时间:2024-12-10
0.2ml pcr凸盖单管本生(天津)健康科技有限公司供应：移液器，分光光度计，发光检测仪，全系荧光定量pcr耗材，产品包括：pcr单管、pcr八联管、pcr孔板等等。
更新时间:2024-12-10
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