其他产品及厂家
futurrex 刻蚀工艺负性光刻胶nr7-250p nr9-1000p.
更新时间:2024-10-21
microchem su-8光刻胶是一种基于环氧su-8树脂的环氧型的、近紫外负性光刻胶，该系列光刻胶性能优良，主要用于厚衬底上需要高深宽比时的应用。可对近紫外线（365nm）照射进行光成像，形成的固化膜或微结构具有出色的热稳定和机械稳定性，并耐溶剂和酸碱腐蚀，使其非常适合制造永久性结构，例如像素墙，流体通道和喷嘴，微阵列和垫片等。
更新时间:2024-10-21
az®40 xt的应用始于15-30 µm，在这个厚度范围时，由于n2脱气和再水化延迟时间，使用常规正性光刻胶的光刻工艺变得非常耗时，而az®40 xt可以避免这个问题 。即使对于非常大的光刻胶膜厚度，az®40 xt也只需
更新时间:2024-10-21
az ® 4500系列（az ® 4533和az ® 4562）是正性厚光刻胶，在普通湿法蚀刻和电镀工艺中具有优良的粘附性能.
更新时间:2024-10-21
pmma（聚甲基丙烯酸甲酯）是一种通用的聚合材料，适用于许多成像和非成像微电子系统。pmma光刻胶是将pmma聚合物溶解在诸如苯甲醚之类的安全溶剂中，曝光会导致聚合物链断裂。pmma常用作直写式电子束的高分辨率正性光刻胶，它具有高的分辨率，易于处理和出色的薄膜特性。pmma还可用作晶圆薄化的保护涂层，粘结粘合剂和刻蚀层。
更新时间:2024-10-21
由底座、光电盘（充有稀有气体）、高压发生电路等组成，有持续放电和声控放电两种工作状态，通电后光电盘会发出红、绿、蓝三色辉光，产生闪电的视觉效果。探究惰性气体在高频强电场中产生辉光的放电现象和原理。性能、结构、安全、外观符合教育部jy0001-2003标准。
更新时间:2024-10-18
ogp的影像测量仪激光选项可提供高精度的单点聚焦和表面扫描功能，低能量的可见二管激光，发射光源到零件表面，并接受反射光源，以此获得数据。通过激光扫描零件表面，以获得高分辨率的表面轮廓。
更新时间:2024-10-18
ogp® 提供了一整套配合轮廓投影仪和ogp smartscope®影像测量仪的标准夹具，使您能够为高效的检测提供快速准确和经济实用的零件定位。
更新时间:2024-10-18
激光选项可提供高精度的单点聚焦和表面扫描功能，低能量的可见二管激光，发射光源到零件表面，并接受反射光源，以此获得数据。通过激光扫描零件表面，以获得高分辨率的表面轮廓。
更新时间:2024-10-18
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