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安智AZ 超厚负性光刻胶 125 nXT
安智az 超厚负性光刻胶 125 nxt
更新时间:2024-10-21
安智AZ 热稳定高分辨率负性光刻胶薄胶 nLOF 5510
安智az 热稳定高分辨率负性光刻胶薄胶 nlof 5510
更新时间:2024-10-21
MicroChem 光刻胶负性光刻胶 SU-8系列
microchem su-8光刻胶是一种基于环氧su-8树脂的环氧型的、近紫外负性光刻胶,该系列光刻胶性能优良,主要用于厚衬底上需要高深宽比时的应用。可对近紫外线(365nm)照射进行光成像,形成的固化膜或微结构具有出色的热稳定和机械稳定性,并耐溶剂和酸碱腐蚀,使其非常适合制造永久性结构,例如像素墙,流体通道和喷嘴,微阵列和垫片等。
更新时间:2024-10-21
安智AZ 正性光刻胶薄胶 TFP 650
tfp 650 f5 光刻胶适用于对附着力要求及蚀刻条件要求苛刻的旋涂和挤压涂层条件的应用。
更新时间:2024-10-21
安智AZ 正性光刻胶厚胶 40XT
az®40 xt的应用始于15-30 µm,在这个厚度范围时,由于n2脱气和再水化延迟时间,使用常规正性光刻胶的光刻工艺变得非常耗时,而az®40 xt可以避免这个问题 。即使对于非常大的光刻胶膜厚度,az®40 xt也只需
更新时间:2024-10-21
安智AZ 正性光刻胶厚胶4500系列
az ® 4500系列(az ® 4533和az ® 4562)是正性厚光刻胶,在普通湿法蚀刻和电镀工艺中具有优良的粘附性能.
更新时间:2024-10-21
安智AZ 正性光刻胶薄胶 ECI 3000系列
az ® eci 3000系列是现代先进的一种正性光刻胶系列。
更新时间:2024-10-21
MicroChem 电子束光刻胶 PMMA
pmma(聚甲基丙烯酸甲酯)是一种通用的聚合材料,适用于许多成像和非成像微电子系统。pmma光刻胶是将pmma聚合物溶解在诸如苯甲醚之类的安全溶剂中,曝光会导致聚合物链断裂。pmma常用作直写式电子束的高分辨率正性光刻胶,它具有高的分辨率,易于处理和出色的薄膜特性。pmma还可用作晶圆薄化的保护涂层,粘结粘合剂和刻蚀层。
更新时间:2024-10-21
波的合成演示器出租
实用新型波的合成演示器是种以质点位移叠加的方式实现两列正弦波合成的教学实验装置。该装置采用带有符合p=p
更新时间:2024-10-18
光电板,光电盘,闪电盘,声控型出租
由底座、光电盘(充有稀有气体)、高压发生电路等组成,有持续放电和声控放电两种工作状态,通电后光电盘会发出红、绿、蓝三色辉光,产生闪电的视觉效果。探究惰性气体在高频强电场中产生辉光的放电现象和原理。性能、结构、安全、外观符合教育部jy0001-2003标准。
更新时间:2024-10-18
OGP 影像测量仪配件--激光
ogp的影像测量仪激光选项可提供高精度的单点聚焦和表面扫描功能,低能量的可见二管激光,发射光源到零件表面,并接受反射光源,以此获得数据。通过激光扫描零件表面,以获得高分辨率的表面轮廓。
更新时间:2024-10-18
OGP 影像测量仪配件--夹具
 ogp® 提供了一整套配合轮廓投影仪和ogp smartscope®影像测量仪的标准夹具,使您能够为高效的检测提供快速准确和经济实用的零件定位。
更新时间:2024-10-18
OGP 影像测量仪配件--旋转台
microtheta™ 旋转台使任何一款配有measuremind ® 3d 软件的ogp影像测量仪具有真正的第四轴测量功能。
更新时间:2024-10-18
TTL 和DRS 激光
激光选项可提供高精度的单点聚焦和表面扫描功能,低能量的可见二管激光,发射光源到零件表面,并接受反射光源,以此获得数据。通过激光扫描零件表面,以获得高分辨率的表面轮廓。
更新时间:2024-10-18
影像测量仪配件--探针
qvi影像测量仪提供了一个广泛并创新的科技,从触发式到微型探针均可选配。
更新时间:2024-10-18

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