项目 | 技术指标 |
仪器型号 | EM13 LD/635 (或其它选定波长) |
激光波长 | 635 nm (或其它选定波长,高稳定半导体激光器) |
膜厚测量重复性(1) | 0.5nm (对于平面Si基底上100nm的SiO2膜层) |
折射率测量重复性(1) | 5x10-3 (对于平面Si基底上100nm的SiO2膜层) |
单次测量时间 | 与测量设置相关,典型3s |
的膜层范围 | 透明薄膜可达1000nm 吸收薄膜则与材料性质相关 |
光学结构 | PSCA(Δ在0°或180°附近时也具有极高的准确度) |
激光光束直径 | 2mm |
入射角度 | 40°-90°可手动调节,步进5° |
样品方位调整 | Z轴高度调节:±6.5mm 二维俯仰调节:±4° 样品对准:光学自准直和显微对准系统 |
样品台尺寸 | 平面样品直径可达Φ170mm |
外形尺寸 | 887 x 332 x 552mm (入射角为90º时) |
仪器重量(净重) | 25Kg |
选配件 | 水平XY轴调节平移台,真空吸附泵 |
软件(ETEM) | * 中英文界面可选 * 多个预设项目供快捷操作使用 * 单角度测量/多角度测量操作和数据拟合 * 方便的数据显示、编辑和输出 * 丰富的模型和材料数据库支持 |