光学平台产品及厂家
美国neocera 脉冲激光沉积系统pioneer 180-2-pld,一种用途广泛的、用于薄膜沉积以及纳米结构和纳米粒子合成的方法
更新时间:2024-12-24
2英寸氮化镓自支撑晶片, 10×10.5mm²氮化镓自支撑晶片, 非性/半性氮化镓自支撑晶片, 4英寸氮化镓厚膜晶片, 2英寸氮化铝厚膜晶片, 2英寸氮化镓厚膜晶片
更新时间:2024-12-24
法国annealsys 高温退火炉as-one, 多用途快速热处理设备，适用于硅，化合物半导体，太阳能电池& mems.
更新时间:2024-12-24
日本rion液体光学颗粒度仪ks-19f,宽广的测试范围，可测试 0.03~0.13um 之间的颗粒只需要小小的样品取样量就可以得到高效率高精准的颗粒数据。octoplus 400 是一款通用型mbe系统，非常适合于iii/v族， ii/vi族，及其他复合半导体材料应用。兼容2-4英寸标准晶片。竖直分割式腔体设计，可以装配各种源炉，实现不同材料分子束外延生长。
更新时间:2024-12-24
evg的hercules nil 300 mm是一个完全集成的纳米压印系统，是evg的nil产品组合的新成员。 hercules nil基于模块化平台，在单个平台上将清洗模块，抗蚀剂涂层模块和烘烤预处理模块与evg的有smartnil大面积纳米压印（nil）模块结合在一起，用于直径大为300 mm的晶片。
更新时间:2024-12-24
evg720紫外纳米压印用于从印章到衬底的紫外图形转移。evg720自动纳米压印系统允许衬底和印章的尺寸从很小的芯片到150mm直径的圆片范围。
更新时间:2024-12-24
美国 oai 光刻机 model 200 型桌面掩模对准器系统，完全手工操作，输出光谱范围:hg: g(436海里),h(405海里),i(365nm)和310nm线，hg-xe: 260nm和220nm或led: 365nm, 395nm, 405nm
更新时间:2024-12-24
oai model 212型桌面掩模对准系统, 输出光谱范围:hg: g(436nm),h(405nm),i(365nm)和310nm,hg-xe: 260 nm和220 nm或led:365 nm、395 nm和405 nm
更新时间:2024-12-24
oai model 800e 型掩模对准系统，各种光谱范围选项:hg灯:g(436nm),h(405nm)， i(365nm)和310nm线，hg-xe灯:260nm和220nm
更新时间:2024-12-24
oai的面板掩模光刻机 model 6020s, 用于foplp型号6020s -半自动化或自动化,实现500mm x 500mm 晶圆尺寸的fo-plp加工.
更新时间:2024-12-24
nie-4000 离子束刻蚀系统，nir-4000 ibe/rie 双刻蚀系统，通过加速的 ar 离子进行物理刻蚀或铣削。对于硅的化合物也可以通过反应离子束刻蚀的方式提高刻蚀速率和深宽比。
更新时间:2024-12-24
hysitron ti 980 纳米压痕仪bruker hysitron ti 980 triboindenter 加速纳米力学研究进入更高阶段,同时具有高的性能、灵活性、可信度、实用性和速度。基于海思创几十年的技术创新，它为纳米力学表征带来了高水平的性能、功能和易用性。ti 980达到了台优异纳米力学测试仪
更新时间:2024-12-24
echo pro 全自动超声波扫描显微镜美 sonix 全自动超声波扫描显微镜echo pro , 批量 tray盘和框架直接扫瞄, 编程自动判别缺陷, 高产量,无需人员重复设置, 自动烘干.
更新时间:2024-12-24
日本elionix 微细加式电子束曝光电子束直写机els-f125，是elionix推出的上台加速电压达125kv的电子束曝光系统，其可加工线宽下限为5nm的精细图形。
更新时间:2024-12-24
日本elionix 超高精密电子束光刻系统 els-f150, 是上第 个150千伏电子束光刻系统。支持单位纳米用于高研究的设备制造。
更新时间:2024-12-24
日本电子 jsm-7610fplus，用于纳米科学的肖特基场发射扫描电子显微镜， 是款采用半浸没式物镜、拥有超高分辨率的场发射扫描电子显heidelberg 海德堡 μmla桌面无掩模光刻机
更新时间:2024-12-24
dwl 66+激光光刻系统是具经济效益的高分辨率图像产生器, 具有多种直写模块，实现不同精度直写需求, 能于结构上进行灰度曝光
更新时间:2024-12-24
德国海德堡 heidelberg 激光直写光刻机 mla150,德国高精密激光直写绘图机,非接触式曝光,可支持高效数位光刻与灰度光刻.
更新时间:2024-12-24
octoplus 500 mbe系统是为了在6英寸衬底上生长高质量的iii/v族或者ii-vi族异质结构材料而研发业分子束外延系统。样品台选用热解石墨加热或者钨、钽加热丝。标准的octoplus 500有11个呈放射状分布的源孔，可以根据需要增选3个源孔。
更新时间:2024-12-24
德国leica em txp全新精研一体机，是一款独特的可对目标区域进行精确定位的表面处理工具，特别适合于sem，tem及lm观察之对样品进行切割、抛光等系列处理。它尤其适合于制备高难度样品，如需要对目标精细定位或需对肉眼难以观察的微小目标进行定点处理。
更新时间:2024-12-24
ure-2000/35l 型紫外单面光刻机,曝光面积：100mm×100mm；分辨力：1.0 μm（胶厚 2.0 μm 的正胶，365nm 波长）
更新时间:2024-12-24
ure-2000/17 型紫外单面光刻机（台式）,曝光面积：4 英寸,分辨力：1.5μm（胶厚 2 m 的正胶）,对准精度：±1μm
更新时间:2024-12-24
ure-2000/25 型紫外单面光刻机，曝光面积：4 英寸,分辨力：1 μm（胶厚 2 μm的正胶）,对准精度：± 0.8μm
更新时间:2024-12-24
ure-2000s/25 型紫外双面光刻机，曝光面积：4 英寸，正面对准采用双目双视场对准显微镜：既可通过目镜目视对准，也可通过 ccd+显示器对准，光学合像，光学大倍数 400 倍，光学+电子放大 800 倍
更新时间:2024-12-24
ure-2000s/b 型紫外双面光刻机,曝光面积：6 英寸，对准精度：± 2μm （双面,片厚 0.8mm），± 0.8μm （单面）
更新时间:2024-12-24
ure-2000s/a8 型紫外双面光刻机, 曝光面积：8 英寸, 曝光波长：365nm： 15mw/cm，405nm：15-30mw/cm2, 对准精度：±2 μm （双面,片厚 0.8mm）±0.8 μm （单面）
更新时间:2024-12-24
ure-2000s/25s 型双面光刻机，曝光面积：4 英寸（或 6 英寸），正面对准采用双目双视场对准显微镜：既可通过目镜目视对准，也可通过 ccd+显示器对准，光学合像，光学大倍数 400 倍，光学+电子放大 800 倍
更新时间:2024-12-24
ure-2000s/35l（a）型紫外双面光刻机，曝光面积：6 英寸，正面对准采用双目双视场对准显微镜：既可通过目镜目视对准，也可通过 ccd+显示器对准，光学合像，光学大倍数 400 倍，光学+电子放大 800 倍
更新时间:2024-12-24
ure-2000s/35l（b）型双面光刻机, 曝光面积：4 英寸, 正面对准采用双目双视场对准显微镜：既可通过目镜目视对准，也可通过 ccd+显示器对准，光学合像，光学 大倍数 400 倍，光学+电子放大 800 倍
更新时间:2024-12-24
ure-2000/30 型紫外单面光刻机,高倍率双目双视场显微镜和 22 英寸宽屏液晶显示同时观察对准过程，并提供 usb 输出；既满足高精度对准，又可用于检测曝光结果，且曝光结果和方便存储
更新时间:2024-12-24
ure-2000/35al 型紫外单面光刻机,曝光面积：150mm×150mm；分辨力：1.0μm（365nm 波长）,对准精度：≤±0.8μm
更新时间:2024-12-24
理音rion kz-30uk采样器，易于操作的室内化学采样器，当腔体压力过高的时候， 可以排净空气，防止发生故障 ，设计简单的化学防爆采样器，kz-30uk的设计是可以为 离线测试的液体粒子计数器提供加压。
更新时间:2024-12-24
美nano-master热蒸镀系统：nte-4000 独立式电子束蒸镀，nte-3500 紧凑型独立式热蒸镀，nte-3000 双蒸源台式热蒸镀系统，nte-1000 简便型热蒸镀。热蒸镀系统可以跟nano-master那诺-马斯特的其它任意真空系统组成双系统。
更新时间:2024-12-24
美nano-master磁控溅射系统：nsc-4000独立式磁控溅射系统，可支持共溅射等能力的扩展nsc-3500紧凑型独立式热蒸镀，可以支持金属材料的dc溅射，介质材料的rf溅射，以及脉冲dc溅射等应用。nsc-3000可支持多4个靶的dc溅射或rf溅射nsc-1000单金靶靶材的台式溅射系统，不但可用于电镜制备，也可以用于常规的金属溅射
更新时间:2024-12-24
nano-master的等离子增强化学气相沉积系统pecvd系统npe-4000,可以制造高质量的氧化硅、氮化硅、碳纳米管、金刚石和碳化硅等薄膜。基板可以容纳8英寸晶圆，可通过射频、脉冲直流或者直流电源提供偏压，可通过热电阻或者红外灯加热到800°c。ns
更新时间:2024-12-24
nano-master电子束蒸镀系统 nee-4000，可通过样片掩膜实现组合蒸镀，并可通过电脑控制单个电子束蒸镀的蒸镀速率。系统可支持共蒸镀功能。能够升支持自动上下片，以及手动或自动翻转样片实现双面镀膜。该系列的e-beam电子束蒸镀系统，也可以跟磁控溅射
更新时间:2024-12-24
ibm离子铣/ibe离子束刻蚀系统：nie-4000 独立式 ibe 刻蚀系统nie-3500 紧凑型独立式 ibe 刻蚀系统nir-4000 独立式 ibe / rie 双刻蚀系统nie-3000 台式 ibe 刻蚀系统nsc-3000可支持多4个靶的dc溅射或rf溅射
更新时间:2024-12-24
nano-master等离子清洗和灰化系统设计用于广泛的需求，从批处理和单晶圆的光刻胶剥离到晶圆表面改性都可以涵盖。这些系统通过计算机控制，可以配套不同的等离子源，加热和不加热的基片夹具，以及独一无二的从等离子刻蚀切换到rie刻蚀模式的能力。$r
更新时间:2024-12-24
美nano-master ald/peald原子层沉积：nld-4000 独立式ald系统nld-3500 紧凑型独立式ald系统nld-3000 台式ald系统
更新时间:2024-12-24
美nano-master rie反应离子刻蚀系统nrr-4000 独立式双rie或icp刻蚀系统nre-4000 独立式rie或icp系统nre-3000 台式rie系统ndr-4000 深硅刻蚀系统
更新时间:2024-12-24
美nano-master 热真空太空模拟系统 ndt-4000,是一款器件测试系统，俗称“热真空系统”,可以用于真空和可控的均匀加热以及冷却循环条件下的器件或样片测试。
更新时间:2024-12-24
美nano-master rtp快速退火炉nrt-3500 紧凑型独立式全自动rtp系统nrt-4000 独立式全自动rtp系统nrt-4000 独立式大批量rtp系统nir-4000 独立式 ibe / rie 双刻蚀系统nie-3000 台式 ibe 刻蚀系统nsc-3000可支持多4个靶的dc溅射或rf溅射
更新时间:2024-12-24
美nano-master swc单晶圆清洗系统swc-3000 台式单晶圆/掩膜版清洗系统swc-4000 立柜式单晶圆/掩膜版清洗系统swc-5000 带25片cassette 机械手自动清洗nrt-4000 独
更新时间:2024-12-24
美nano-master 大基片清洗机 large substrate cleaning :lsc-4000 是一款独立式清洗机，使用计算机控制，大可支持外径21”的基片。
更新时间:2024-12-24
韩国ecopia 全自动变温霍尔效应测试仪 hms-5300lth,温度范围：80k-573k,测量材料si, sige, sic, gaas, ingaas, inp, gan, tco(including ito),alzno, fecdte, zno 等所有半导体薄膜(p 型和 n 型)；
更新时间:2024-12-24
英国quorum q150t plus 镀金镀碳一体机，是一款优化设计的带涡轮分子泵抽真空的镀膜设备，真空度可达5x10-5mbar。可以溅射具有超细成膜颗粒的易氧化金属，适用于高分辨率成像。同样地，低散射可得到均匀而致密的无定形碳膜。
更新时间:2024-12-24
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