光学平台产品及厂家
p-300f,p-300bv 生产型原子层沉积机，p-300f pro: 27片晶圆盒对盒式全自动装载（cassette-to-cassette），用picoplatform™200集群系统实现。p-300bv pro: 52片晶圆盒对盒式全自动装载，用真空批量load lock实现。
更新时间:2025-01-13
picosun p-200s pro ald 生产型原子层沉积机 ，衬底尺寸和类型： 。50 – 200 mm /单片 。156 mm x 156 mm 太阳能硅片 。150 mm x 150 mm 显示面板
更新时间:2025-01-13
芬兰picosun™ r-200高级型 ald，衬底尺寸和类型 ： 。50-200 mm /单片 。156 mm x 156 mm太阳能硅片 。3d复杂表面衬底 。粉末与颗粒 。roll-to-roll , 衬底最大宽 70 mm 。多孔，通孔，高深宽比（har）样品
更新时间:2025-01-13
picosun™ r-200标准型原子层沉积机，picosun™ r系列设备提供高质量ald薄膜的沉积技术，并在各种各样的衬底上都表现极佳的均匀性，包括最具挑战性的通孔的、超高深宽比和颗粒等样品。 我们为液体、气体和固体化学物提供的更高级的，易更换的前驱源系统，能够在晶圆、3d样品和各种纳米特性的样品上生长颗粒度最小的薄膜层。
更新时间:2025-01-13
jbx-8100fs 圆形电子束光刻系统· 最新高精密jbx-8100fs圆形电子束光刻系统，通过全方位的设计优化，实现更简便的操作，更快的刻写速度，更小的占地面积和安装空间，并且更加绿色节能。
更新时间:2025-01-13
nanoarch p130是科研3d打印系统，拥有2μm的超高打印精度和5μm的超低打印层厚，从而实现超高精度的样件制作，非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。
更新时间:2025-01-13
the oai solar energy meter measures solar simulator irradiance in "sun" units, for example, with one sun equaling 1000 w/m2 at 25 °c at airmass 1.5 global conditions.
更新时间:2025-01-13
30型uv光源是高效的，可用于各种应用。光由椭圆形反射器收集并聚焦在积分/聚光透镜阵列上，以在曝光平面产生均匀的照明。这种紫外光源提供多种光束尺寸，最大24英寸平方，输出光谱范围从220 nm到450 nm，使用适当的灯（包括）。输出功率范围从200瓦到5千瓦。所有oai uv光源都易于配备快速更换过滤器组件，使用户能够轻松定制输出光谱。可选配远程排气风扇。
更新时间:2025-01-13
oai 200型光刻机是一种具有成本效益的高性能掩模对准器，采用经过行业验证的组件，使oai成为光刻设备行业的导者。 200型是台式面罩对准器，需要小的洁净室空间。它为研发，或有限规模，试点生产提供了经济的替代方案。利用创新的空气轴承/真空吸盘调平系统，衬底快速平稳地平整，用于平行光掩模对准和在接触曝光期间在晶片上的均匀接触。该系统能够实现一微米分辨率和对准精度。
更新时间:2025-01-13
2012sm型自动边缘曝光系统为使用标准阴影掩模技术的边缘珠去除提供了一种经济高效的方法。 设计用于容纳8“到300mm的晶片，该工具具有自动foup装载。 掩模和基材切换可以快速且容易地实现，从而增加该生产工具的通用性和高产量。
更新时间:2025-01-13
2012sm型自动边缘曝光系统为使用标准阴影掩模技术的边缘珠去除提供了一种经济高效的方法。 设计用于容纳8“到300mm的晶片，该工具具有自动foup装载。 掩模和基材切换可以快速且容易地实现，从而增加该生产工具的通用性和高产量。
更新时间:2025-01-13
ksi v-octo 八探头大型超声波扫描显微镜系统，该系统同时使用8只换能器，能最大限度的确保快速图像采集和高效能。
更新时间:2025-01-13
208hr高分辨离子溅射仪-适用于场发射扫描电镜，可选择多种镀膜材料，精确的膜厚控制，样品台控制灵活，多个样品座，样品室几何可变，宽范围的操作压力，紧凑、现代的桌上型设计，操作容易。
更新时间:2025-01-13
plasmapro 80 rie 牛津等离子体刻蚀机,是一种结构紧凑、小尺寸且使用方便的直开式系统，可以提供多种刻蚀和沉积的解决方案。 它易于放置，便于使用，且能确保工艺性能。直开式设计可实现快速晶圆装卸，是研究和小批量生产的理想选择。 它通过优化的电冷却和出色的衬底温度控制来实现高质量的工艺。
更新时间:2025-01-13
plasmapro 80 rie 牛津等离子体刻蚀机,是一种结构紧凑、小尺寸且使用方便的直开式系统，可以提供多种刻蚀和沉积的解决方案。 它易于放置，便于使用，且能确保工艺性能。直开式设计可实现快速晶圆装卸，是研究和小批量生产的理想选择。 它通过优化的电冷却和出色的衬底温度控制来实现高质量的工艺。
更新时间:2025-01-13
plasmapro 80 icpcvd 牛津icp等离子沉积机，是一种结构紧凑且使用方便的小型直开式系统，可以提供多种刻蚀和沉积的解决方案。 它易于放置，便于使用，且能够确保工艺性能。直开式设计可实现快速晶圆装卸，是科学研究、原型设计和小批量生产的理想选择。 它通过优化的电冷却和出色的衬底温度控制来实现高性能工艺。
更新时间:2025-01-13
牛津oxford system 100 等离子刻蚀与沉积设备,该设备是一个灵活和功能强大的等离子体刻蚀和淀积工艺设备,具有工艺灵活性，适用于化合物半导体，光电子学，光子学，微机电系统和微流体技术.
更新时间:2025-01-13
plasmapro 80 icp 英国牛津oxford 等离子体刻蚀机,是一种结构紧凑、小型且使用方便的直开式系统，可提供多种刻蚀解决方案。 它易于放置，便于使用，且能够确保工艺质量。直开式设计允许快速的进行晶圆装卸，是科学研究、原型设计和少量生产的理想选择。 该设备通过优化了的电冷却技术和出色的衬底温度控制来实现高度稳定的工艺结果。
更新时间:2025-01-13
牛津opal开放式样品载入ald设备，紧凑型开放式样品载入原子层沉积（ald）系统，opal提供了业的热ald设备，可以简单明了的升使用等离子体，使得在同一紧凑设备中集成了等离子体和热ald。
更新时间:2025-01-13
plasmapro 100 estrelas牛津深硅刻蚀系统，旨在提供深硅蚀刻（dsie）域的全方位的灵活性以满足微电子机械系统（mems）、 先进封装以及纳米技术市场的各种工艺要求。考虑到研究和生产的市场发展，plasmapro 100 estrelas 提供了更加出色的工艺灵活性。
更新时间:2025-01-13
plasmapro 100 ale 牛津原子层刻蚀机，市场应用广，包括但不限于： mems和传感器、光电子、分立元器件和纳米技术。它具有足够的灵活性，可用于研究和开发，通过打造质量满足生产需求。
更新时间:2025-01-13
英国hhv auto500 gb 适合手套箱集成的真空镀膜系统，是门设计用于手套箱集成使用的镀膜设备，满足氧气或水汽敏感的材料镀膜的应用要求。该系统配了一个特殊结构的真空腔室，可直接与市场上大多数手套箱集成到一起。真空腔室的门可竖直滑动开关，嵌入手套箱内，并占用很少的手套箱空间；其后门是铰链扇式开关，能在不影响手套箱内气氛的情况下轻松维护腔室内工艺组件。
更新时间:2025-01-13
英国hhv auto 306 科研工作者和电子显微学家的多功能镀膜设备，是一种多功能的紧凑型镀膜设备，设计用于满足科研工作者和电子显微学家的需求。auto306可配备各种真空系统、真空腔室和标准化工艺附件，提供一系列实验技术以满足现代化实验室的需要。
更新时间:2025-01-13
tf500/tf600 适合先进研发和试生产的全功能系统，系统配置可选择多种腔室尺寸和工艺附件，以精确的符合用户需求。这两个型号的系统都可以安装多个镀膜源，也都支持离子束处理选项。有一系列预进样室（load lock）和样品操纵装置可供选择，以提高真空镀膜效率。
更新时间:2025-01-13
日本jeol热场发射扫描电子显微镜 jsm-7900f，它继承了上一代广获好评的性能如高的空间分辨率、高稳定性、多种功能等的同时，操作性能大简单化。该设备不依赖操作者的技能，始终能够发挥其佳性能。
更新时间:2025-01-13
日本rion气体粒子计数器：kc-32 ( 光散射法）测试粒径（6个通道）：≥0.3μm， ≥0.5μm ， ≥1μm ， ≥2μm， ≥5μm, ≥10μm
更新时间:2025-01-13
日本rion气体粒子计数器：kc-20a ( 光散射法）,测试粒径（5个通道）：≥10μm， ≥20μm ， ≥30μm ， ≥50μm， ≥100μm
更新时间:2025-01-13
日本rio液体粒子计数器ke-18fx ( 光散射法）,测试粒径（4个通道）：≥0.04μm， ≥0.08μm ， ≥0.1μm ， ≥0.15μm，
更新时间:2025-01-13
日本rion液体光学颗粒度仪 ks-42d ( 光散射法），大粒子数浓度：10 000 颗/l （误差值低于10%），粒径范围（8个通道，出厂默认）：≥2μm， ≥3μm ， ≥5μm ， ≥7μm, ≥10μm， ≥25μm ， ≥50μm ， ≥100μm(可选 ≥150μm）
更新时间:2025-01-13
日本rion粒子计数器：kl-30ax ( 光散射法）,大粒子数浓度：15 000 颗/l （误差值低于10%）, 粒径范围（4个通道，工厂标配）：≥0.04μm， ≥0.08μm ， ≥0.1μm ， ≥0.15μm
更新时间:2025-01-13
日本rion气体粒子计数器：kl-30a ( 光散射法）, 测纯水，可打印。大粒子数浓度：15 000 颗/l （误差值低于10%）, 粒径范围（4个通道，出厂设置）：≥0.05μm， ≥0.1μm ， ≥0.15μm ， ≥0.2μm
更新时间:2025-01-13
日本rion气体粒子计数器：kl-30b ( 光散射法）, 测纯水，可打印。大粒子数浓度：200 000 颗/l （误差值低于10%），粒径范围（4个通道，出厂设置）：≥0.05μm， ≥0.1μm ， ≥0.15μm ， ≥0.2μm
更新时间:2025-01-13
日本rion 手持式粒子计数器：kc-51( 光散射方式）,大粒子数浓度：140 000 000颗/m³ （误差值低于10%）
更新时间:2025-01-13
日本rion 手持式粒子计数器：kc-52( 光散射方式）,粒径范围：5个通道： 0.3μm ， 0.5μm , 1.0μm , 2.0μm, 5.0μm, 大粒子数浓度：140 000 000颗/m³ （误差值低于10%）
更新时间:2025-01-13
日本rion气体粒子计数器：ka-02( 光散射方式）,多点监视用粒子计数器，测试粒径（2个通道）：≥0.3μm ， ≥0.5μm，大粒子数浓度：140 000 000颗/l （误差值低于10%）
更新时间:2025-01-13
日本rion气体粒子计数器：ka-03( 光散射方式）,多点监视用粒子计数器，测试粒径（5个通道）：≥0.3μm ， ≥0.5μm ，≥1μm ， ≥2μm ，≥5μm ，大粒子数浓度：140 000 000颗/l （误差值低于10%）
更新时间:2025-01-13
日本rion气体粒子计数器：ka-82( 光散射方式）,多点监视用粒子计数器，测试粒径（5个通道）：≥0.1μm ， ≥0.15μm， ≥0.2μm ， ≥0.3μm ， ≥0.5μm ，大粒子数浓度：10 000颗/l （误差值低于5%）
更新时间:2025-01-13
日本elionix 微细加式电子束曝光电子束直写机els-f125，是elionix推出的上台加速电压达125kv的电子束曝光系统，其可加工线宽下限为5nm的精细图形。
更新时间:2025-01-13
日本elionix 超高精密电子束光刻系统 els-f150, 是上第 个150千伏电子束光刻系统。支持单位纳米用于高研究的设备制造。
更新时间:2025-01-13
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