1冷缩技术 全套产品采取最先进的全冷缩技术,无需动火及特殊工具,安装时,只需将线芯抽出,弹性体便迅速收缩并紧贴所需安装部位。
2、绝缘可靠 所有硅橡胶都为进口,硅橡胶具有优良的绝缘性的高弹性,安装后始终保持对电缆本体合适的径向压力,使内界面结合紧密,不会因电缆运行时的呼吸作用而产生电击穿。应力控制部分与主绝缘复合为一体,有效地解决了电缆外屏蔽面处的电应力集中问题,确保绝缘可靠,运行安全。
3、安装简便 所有产品都已在工厂内制造成形。无须特别培训,安装操作简单,且不用火,省时省力,全冷缩自动复位技术,安装轻松不流汗,大大减少了由于操作不当造成的质量事故,而且解决了预制电缆附件收缩不紧或安不进去的现象。
4、运用广泛 抗污秽、耐老化、憎水性好,具有优越的耐寒热性能,特别适用于高海拔地区、寒冷地区、潮湿地区、盐雾地区及重污染地区。且安装时不用明火,特别适用于石油、化工、矿山、隧道等易燃易爆场所。
5、设备先进 采用进口设备,自动化程度高,性能可靠。
6、外观漂亮 冷缩管加长且无合缝线,外表光滑美观。联系人:王成心手机:13373858161
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原子层沉积 ALD 是基于顺序使用气相化学过程的重要技术之一, 它可以被视为一种特殊类型的化学气相沉积 CVD . 多数 ALD反应使用两种或更多种化学物质(称为驱物, 也称为“反应物”). 这些驱物以一种连续的且自我限制的方式, 一次与一种材料的表面反应. 通过多个 ALD 循环, 缓慢地沉积薄膜.热沉积式的 ALD 需要较高的制程温度 (传统为 150-350°C). 上海伯东代理原子层沉积设备可以精准的控制 ALD 的制程, 薄膜的厚度和均匀度皆小于 +/- 1%, 广泛应用于 OLED 和硅太阳能电池的钝化层, 微机电系统, 纳米电子学, 纳米孔结构薄膜, 光学薄膜, 薄膜封装技术等域.上海伯东原子层沉积设备配置和优点ALD 具有许多优点, 例如出色的均匀性, 在复杂形状的基板表面上沉积的具有相同膜厚的膜保形性, 低温处理. 因此, ALD 被广泛应用于微电子, 纳米技术和生物技术域中.客制化的基板尺寸, 大直径可达 300mm 晶圆优异的薄膜均匀度小于 ±1%较高的深宽比和复杂结构具有相同特性之薄膜沉积薄膜具有高致密性驱物材料可多达 6种并可分别加热到 200°C快速脉冲的气体输送阀, 反应时间为 10毫通过稳定的温度控制, 将基板载台加热到 400°C材料: Al2O3, HfO2, SiO2, TiO2, Ta2O5, ZnO, AZO, HfO2, SiO2, TiO2, GaO2, AlN, SiN, Pt … 等等原子层沉积设备腔体和选件原子层沉积设备腔体为铝腔或者不锈钢腔体, 其占地面积小, 可缩短制程时间, 通过使用水冷系统, 加热器或加热包来控制腔体温度.设备可以与传送腔, 机械手臂和手套箱整合在一起, 搭配使用椭圆偏振光谱仪和高真空传送系统.若您需要进一步的了解上海伯东原子层沉积设备, 请参考以下联络方式上海伯东: 叶小姐 台湾伯东: 王小姐T: +86-21--3511 ext 109 T: +886-3--9508 ext 161F: +86-21-- F: +886-3--0049M: +86 -883- ( 微信同号 ) M: +886---958qq: 2821409400 现部分品牌诚招合作代理商, 有意向者欢迎联络上海伯东 叶小姐 -883-上海伯东版权所有, 翻拷必究
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(注:该产品价格参照日本市场价)
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产品说明:
NTS感应器,NTS传感器,NTS荷重元 应用范围:拉压力试验机专用。 | ||
规格容量 | 1kg、2kg、5kg、10kg、50kg、100kg、200kg、500kg、1000kg、2000kg、5000kg等 | |
规格输出电压 | 0.05mV/V | |
零点偏移 | 0.03%R.O. | |
重复性 | 0.02%R.O. | |
材质 | 不锈钢或铝 | |
电缆线 | 6、4 芯隔离线、长2m | |
产地 | 日本 | |
厂牌 | NTS (LRM / LRK系列) |
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