物理气相沉积设备产品及厂家
veeco 的单靶点 nexus pvdi 物理气相沉积系统为各种薄膜沉积应用提供了大的灵活性。nexus pvd 的加工精度为 200 毫米，具有先进的工艺能力、无与伦比的均匀性和多种沉积模式
更新时间:2025-03-05
kurt j. lesker company pro line pvd 200 是一种模块化、功能齐全的薄膜沉积系统，可实现 8 英寸晶圆转移、多达 8 个溅射阴和 eklipse 高控制软件。pvd 系列在全球拥有 500 多台设备，是一种成熟、坚固且多功能的设计，由 pvd 75 和 200 平台组成。pro line pvd 200 建立在原始设计的成功基础上，改进了系统基础压力和抽空
更新时间:2025-03-05
其强大的先进研究工具设计用于适应特定的薄膜应用，如 gmr、cms、半导体、纳米器件、光子学和光伏独特的系统设计可以配置为真正的超高真空性能经过现场测试和验证的设计
更新时间:2025-03-05
kurt j. lesker company lab line uhv 溅射平台为磁控溅射沉积应用而设计。为满足 uhv 溅射工艺需求而定制的腔室设计、具有高编程、负载锁定功能的行业佳软件控制系统以及用于优化薄膜性能的众多功能是这种创新设计提供的一些优势。®
更新时间:2025-03-05
al-1 无针孔 薄膜沉积设备通过交替向反应室提供有机金属原料和氧化剂，仅利用表面反应沉积薄膜，实现了高膜厚控制和良好的步骤覆盖率。薄膜的厚度可以控制在原子层的数量。
更新时间:2025-03-05
kurt j. lesker company® nano 36™ 是我们优化的入门沉积系统。我们的腔室设计特别适合手套箱集成。nano 36 具有更高的功能和更小的占地面积，提供了实惠的价格点，同时保持了您期望从 kjlc 获得的质量。nano 36 与以下沉积技术兼容：
更新时间:2025-03-05
kurt j. lesker company mini spectros™是基于主力spectros平台的下一代薄膜沉积系统。spectros平台在全球拥有100多台设备，是一种成熟、坚固
更新时间:2025-03-05
kurt j. lesker company 的 spectros™ 150 是基于主力 spectros 平台的下一代薄膜沉积系统。spectros平台在全球拥有100多台设备，是一种成
更新时间:2025-03-05
概述针对有机材料沉积进行了优化多达 12 个 lte 信号源;1cc、10cc或35cc容量主体与掺杂剂比 1000：1多达 4 个热蒸发源基板快门自动基板、掩膜存储和更换
更新时间:2025-03-05
kurt j. lesker company pvd-batch drum系列由两种标准尺寸（pvd 200 和 pvd 500）组成，可配置为水平或垂直配置。当颗粒物是一个主要问题时，水平配置优先。水平和垂直配置均可用于 3d 涂层的双轴旋转。通过每次运行的沉积面积来衡量的吞吐量范围从几百平方英寸到超过 2000 平方英寸，并且还提供更大的定制系统。
更新时间:2025-03-05
它实现高大量生产性的高真空基本sputter - 可以生产1batch/900ea以上的产品，以沉积及sputter工序的佳化，提升emi莫品质 - 证明“沉积-sputter-沉积-sputter”的工序连接的优秀性（zero defects化），因精密的机器设置及优秀的设备耐用性保持，维护周期长，价格便宜。
更新时间:2025-03-05
本装置是在真空状态下用于micro phone的厚度为4u film的gold(au)做sputtering的设备.
更新时间:2025-03-05
产品概述：高真空电子束及热阻蒸发薄膜沉积系统主要由蒸发真空室、e型电子枪、热阻蒸发组件、旋转基片加热台、工作气路、抽气系统、真空测量、安装机台及电控系统等部分组成，自动控制软件系统。设备用途：电子束蒸发可以蒸发高熔点材料，比一般电阻加热蒸发热效率高、 束流密度大、蒸发速度快，制成的薄膜纯度高、质量好，厚度可以较准确地控制，可以广泛应用于制备高纯薄膜和导电玻璃等各种光学材料薄膜。
更新时间:2025-03-05
covap pvd 平台为许多过程应用提供了紧凑、经济且仍然强大的解决方案。为需要安全可靠的工具的实验室而设计，该工具可在紧凑的占地面积内生产可重复的高质量薄膜。沉积源被隔离，以减少热效应和交叉污染。covap pvd平台配备了一整套可拆卸的腔室屏蔽层，以确保腔室易于清洁和维护。在腔室打开时，源、功率和气动压力被切断，确保了高别的安全性。它可以集成到手套箱中，也可以在独立配置中选择.
更新时间:2025-03-05
nexdep pvd平台在经济性和多功能性之间取得了平衡。它可以配备强大的工艺增强功能，而不会占用实验室的所有空间或预算。您的研究目标、生产需求和/或应用终目标将告知如何装备您的 nexdep pvd 平台。
更新时间:2025-03-05
angstrom engineering 的 amod pvd 平台是一款物理气相沉积系统该 pvd 平台开始允许更大的腔室投射距离，并能够适应更多的工艺增强功能。您的研究目标、生产需求和/或应用终目标将告知如何装备您的 amod pvd 平台。
更新时间:2025-03-05
evovac pvd 平台可以做任何您需要的事情。它有一个大腔室，可以配备您需要的任何源或工艺增强。evovac 物理气相沉积平台是我们具可定制性的单腔室平台，因此它可以配备用于特定应用的工具，也可以成为适合您实验室中各种独特用户的多功能多源沉积主力。
更新时间:2025-03-05
箱式涂布机是一种灵活的、与洁净室兼容的涂布平台，能够从小批量生产到大批量生产，能够主动建模和校正膜厚不均匀性、材料产量和产量。您的研究目标、生产需求和/或应用终目标将告知如何装备您的箱式涂布机。它非常适合各种应用，包括金属化、光学镀膜、传感和铟凸块键合制造。
更新时间:2025-03-05
高真空电子束蒸发薄膜沉积系统主要由蒸发室、主抽过渡管路、旋转基片架、光加热系统、电子枪及电源、石英晶体振荡膜厚监控仪、工作气路、抽气系统、控制系统、安装机台等部分组成，体现立方整体外观，适用于超净间间壁隔离安装，操作面板一端处在相对要求较高超净环境，其余部分（含低温泵抽系统）处在相对要求较低超净环境。本系统配有一套电子枪及电源，可满足在al，ni，ag，pt，pd，mo,cr和ti等多种金属
更新时间:2025-03-05
产品概述：系统主要由蒸发室、主抽过渡管路、旋转基片架、光加热系统、电子枪及电源、石英晶体振荡膜厚监控仪、工作气路、抽气系统、控制系统、安装机台等部分组成，体现立方整体外观，适用于超净间间壁隔离安装
更新时间:2025-03-05
光掩模制造需要高水平的颗粒控制，同时沉积复杂的多层薄膜结构。veeco 的 nexus ibd-ldd 离子束沉积系统可以应对这一挑战。自 1990 年代以来，veeco 已成功服务于光掩模市场，多年的学习造就了当先进的系统。ibd-ldd 系统是当 euv 掩模坯料上的钼 （mo） 和硅 （si） 多层沉积和钌 （ru） 封端层沉积的理想选择，以及其他需要低缺陷水平和先进薄膜的掩模应用。
更新时间:2025-03-05
适用于硬偏置、引线、绝缘层和传感器堆栈沉积数据存储制造商可以借助 veeco 的第三代 nexus? 离子束沉积 （ibd） 系统大幅提高 80gb/in2 传感器的产量，并满足未来 tfmh 设备制造的需求。
更新时间:2025-03-05
ec400真空热蒸镀膜仪是一款功能全面的高真空蒸发镀膜设备，为薄膜制备与研究设计。其核心组件包括真空室、蒸发源、膜厚监测仪、样品台、真空获得与测量系统、气路系统，以及先进的plc+触摸屏自动控制系统。该设备采用一体化设计，将主机与控制单元紧密结合，不仅操作简便，而且结构紧凑，占地面积小，非常适合实验室环境使用。
更新时间:2025-03-05
产品概述：该设备主要由有机/金属源蒸发沉积室、真空排气系统；真空测量系统；蒸发源；电控系统；配气系统等部分组成。设备用途：热蒸发是指把待镀膜的基片或工件置于真空室内，通过对镀膜材料加热使其
更新时间:2025-03-05
产品概述：该设备主要由有机/金属源蒸发沉积室、真空排气系统；真空测量系统；蒸发源；样品加热控温；电控系统；配气系统等部分组成。该系统可与手套箱对接。设备用途：热蒸发是指把待镀膜的基片或工件
更新时间:2025-03-05
产品概述：高真空有机及热阻蒸发薄膜沉积系统主要由有机/金属源蒸发沉积室、真空排气系统；真空测量系统；蒸发源；样品加热控温；电控系统；配气系统等部分组成。设备用途：热蒸发是指把待镀膜的基片或工件置于真空室内，通过对镀膜材料加热使其蒸发气化而沉积于基体或工件表面并形成薄膜或涂层的工艺过程。可在高真空下蒸发高质量的不同厚度的金属薄膜，广泛应用于物理，生物，化学，材料，电子等域。
更新时间:2025-03-05
产品概述：高真空磁控溅射薄膜沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等，工艺性能稳定、模块化结构，采用行业的软件控制系统。设备特点：本设备是一个镀膜平台，可把
更新时间:2025-03-05
产品概述：磁控溅射薄膜沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等，工艺性能稳定、模块化结构，采用行业的软件控制系统。设备用途：用于纳米单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。可广泛应用于大院校、科研院所的薄膜材料的科研项目。
更新时间:2025-03-05
产品概述：磁控溅射薄膜沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等，工艺性能稳定、模块化结构，采用行业的软件控制系统。设备用途：用于纳米单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。可广泛应用于大院校、科研院所的薄膜材料的科研项目。
更新时间:2025-03-05
产品概述：高真空磁控溅射薄膜沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等，工艺性能稳定、模块化结构，采用行业的软件控制系统。设备用途：可广泛应用于大院校、科研院所的薄膜材料的科研项目。
更新时间:2025-03-05
产品概述：高真空磁控溅射粉末颗粒表面薄膜沉积系统可以在粉末颗粒状样品表面镀制金属膜、磁性膜、绝缘膜等，采用行业的软件控制系统。设备用途：可广泛应用于大院校、科研院所的粉末样品表面镀制薄膜材料的科研项目。
更新时间:2025-03-05
产品概述：高真空磁控溅射薄膜沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等，工艺性能稳定、模块化结构，采用行业的软件控制系统。设备用途：用于纳米单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。可广泛应用于大院校、科研院所的薄膜材料的科研项目。
更新时间:2025-03-05
产品概述：高真空磁控溅射薄膜沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等，工艺性能稳定、模块化结构，采用行业的软件控制系统。设备用途：用于纳米单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。可广泛应用于大院校、科研院所的薄膜材料的科研项目。
更新时间:2025-03-05
产品概述：本沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等，工艺性能稳定、模块化结构，采用行业先的软件控制系统。设备用途：用于纳米单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。可广泛应用于大院校、科研院所的薄膜材料的科研项目。
更新时间:2025-03-05
产品概述：系统主要由溅射真空室、旋转靶台、抗氧化基片加热台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成。设备用途：用于制备超导薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、超硬薄膜等。广泛应用于大院校、科研院所进行薄膜材料的科研。
更新时间:2025-03-05
产品概述：系统主要由真空室、旋转靶台、基片加热台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成。设备用途：脉冲激光沉积(pulsed laser deposition，简称pld)是新近发展起来的一项技术，继20世纪80年代末成功地制备出高临界温度的超导薄膜之后，它独特的优点和潜力逐渐被人们认识和重视。该项技术在生成复杂的化合物薄膜方面得到了非常好的结果。
更新时间:2025-03-05
概述：沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等，工艺性能稳定、模块化结构，采用行业好的软件控制系统；4英寸镀膜区域内片内膜厚不均匀性：≤±2.5%，8英寸镀膜区域内片内膜厚不均匀性：≤±3.5%，测定标准以ti靶材，溅射200——500nm厚薄膜，边缘去5mm，随机5点取样测定为准。
更新时间:2025-03-05
最新产品
- (点击进入)费雪派克呼吸机售后维修-Fisher&Paykel产品技术支持 2025/4/19 9:41:54
- 联系我们| 全国ResMed呼吸机售后维修中心. 瑞思迈400客户服务 2025/4/19 9:39:29
- 【关于我们】全国Fisher&Paykel呼吸机售后维修_费雪派克24h在线电话 2025/4/19 9:36:30
- (点击进入)-中国ResMed呼吸机售后维修-瑞思迈产品技术服务 2025/4/19 9:33:25
- 联系我们| 全国ResMed呼吸机售后维修中心. 瑞思迈全国400客户服务电话 2025/4/19 9:27:19
- 【关于我们】瑞思迈24h在线_全国ResMed呼吸机售后维修中心电话 2025/4/19 9:23:28
- 广数手轮反应不灵敏维修新篇章 2025/4/19 8:49:11
- 看点 华中外挂手轮(维修)又快又好 2025/4/19 8:48:25
- 查看 西门子电子手轮(维修)这样处理 2025/4/19 8:47:34
- 森泰克SUMTAK机床手柄抖动维修快收藏 2025/4/19 8:46:41
- 发格手轮转动不灵活维修经验汇总 2025/4/19 8:46:01
- 华中机床手柄无信号维修快收藏 2025/4/19 8:45:13
- 常州哈斯手轮(维修)维修师傅讲解 2025/4/19 8:44:28
- 常州新代手动脉冲发生器(维修)维修详情集锦 2025/4/19 8:43:39
- 贝克无油真空泵(维修)2025才更新 2025/4/19 8:42:54
- 牧野tosoku机床手柄转动不灵活维修工程师心得 2025/4/19 8:42:44
- NASH纳士真空泵(维修)2025要了解 2025/4/19 8:42:38
- 博世无油真空泵(维修)2025请点击 2025/4/19 8:42:22
- 米勒斯真空泵运行时有噪音(维修)涉及地域广 2025/4/19 8:42:11
- 看点 发那科电子手轮(维修)又快又好 2025/4/19 8:41:57
- 米勒斯真空泵温度过高(维修)检测不收费 2025/4/19 8:41:54
- 日立真空泵抽不出液体(维修)综合实力强 2025/4/19 8:41:39
- Rietschle里其乐真空泵漏气(维修)都说这家好 2025/4/19 8:41:18
- 日本东测T0SOKU手轮电缆损坏维修工程师心得 2025/4/19 8:41:08
- 好利旺真空泵KHA(维修)内容详谈 2025/4/19 8:40:53
- SIHI/希赫真空油泵(维修)2025快掌握 2025/4/19 8:40:41
- SIHI希赫真空抽气泵(维修)2025已分享 2025/4/19 8:40:22
- 发那科机床手柄间歇性失灵维修技术研究 2025/4/19 8:40:18
- 斯托克斯真空泵412MBX(维修)就选这家 2025/4/19 8:40:04
- 神港精机真空泵(维修)2025要了解 2025/4/19 8:39:43