光学平台产品及厂家
minilock-phantom iii 具有预真空室的反应离子刻蚀机。适用于单个基片或带承片盘的基片(3” - 300mm尺寸)，为实验室和试制线生产环境提供最先进的刻蚀能力。它也具有多尺寸批量处理(4x3”; 3x4”; 7x2”)。系统有多达七种工艺气体可以用于刻蚀各种薄膜，如氧化硅、氮化硅、多晶硅、铝、砷化镓、铬、铜、磷化铟和钛。
更新时间:2025-04-30
oracle iii由中央真空传输系统(cvt)、真空盒升降机和最多四个工艺反应室构成。这些工艺反应室与中央负载锁对接，既能够以生产模式运行，也能够作为单个系统独立作业。 oracle iii是市场上最灵活的系统，既可以为实验室环境进行配置(使用单基片装卸)，也可以为批量生产进行配置(使用真空盒升降机进行基片传送)。
更新时间:2025-04-30
titan是一套用于半导体生产的十分紧凑、全自动化、带预真空室的等离子系统。titan具有反应离子刻蚀(rie)配置、高密度电感耦合等离子沉积(hdicp)或等离子增强型化学汽相沉积(pecvd)配置。可对单个基片或带承片盘的基片(3”-300mm)进行处理。它还具有多尺寸批量处理功能。价格适宜且占地面积小。
更新时间:2025-04-30
美国trion orion iii pecvd 薄膜沉积系统可以在紧凑的平台上生产高品质的薄膜。独特的反应器设计可以在在极低的功率生产具有优异台阶覆盖的低应力薄膜。该系统可以满足实验室和中试生产环境中的所有安全，设施和工艺标准要求。
更新时间:2025-04-30
orion hdcvd 高密度气相化学沉积系统采用高密度的化学气相沉积技术，在惰性气体进入口安装感应线圈，周围布置陶瓷管。射频创建等离子体,通过气体环在衬底表面附近引入挥发性气体。当惰性气体与挥发性物质结合时，会发生化学反应，然后在衬底表面沉积一层薄膜.
更新时间:2025-04-30
德zeiss sigma sem 电子束直写仪,利用曝光抗蚀剂，采用电子束直接曝光，可在各种衬底材料表面直写各种图形，图形结构（小线宽为10mm），是研究材料在低维度、小尺寸下量子行为的重要工具。广泛应用于纳米器件，光子晶体，低维半导体等沿域。
更新时间:2025-04-30
俄罗斯 optosystem 准分子激光器：cl7000, 准分子激光器是传统的气体激光器，由于波长短（紫外），短脉冲宽度，高脉冲能量，是激光器家族不可替代的品种！应用上，准分子激光器在脉冲沉积镀膜（pld），光纤光栅刻写，lasik，光刻，微纳加工等方面占主导的地位。
更新时间:2025-04-30
denton 磁控溅射及电子束蒸发薄膜沉积平台,提供了薄膜工业中广泛的配置和沉积模式:电子束蒸发、电阻蒸发、溅射、离子镀和离子辅助沉积。
更新时间:2025-04-30
法plassys超高真空多腔体电子束镀膜机meb550sl3，可以用于沉积ti, ni, au, cr, al, al2o3等金属及氧化物薄膜，目全球主要超导量子实验室均使用该设备制备超导al结（量子比特和约瑟夫森结）和量子器件，可以制备大面积、高度稳定性和可重复性超导结。
更新时间:2025-04-30
美arradiance 台式三维原子沉积系统ald，在小巧的机身（78 x56 x28 cm）中集成了原子层沉积所需的所有功能，可最多容纳9片8英寸基片同时沉积。gemstar xt全系配备热壁，结合前驱体瓶加热，管路加热，横向喷头等设计，使温度均匀性高达99.9%，气流对温度影响减少到0.03%以下。
更新时间:2025-04-30
德国 sentech pe-ald 等离子体增强--原子层沉积系统，是在3d结构上逐层沉积超薄薄膜的工艺方法。薄膜厚度和特性的精确控制通过在工艺循环过程中在真空腔室分步加入置物实现。等离子增强原子层沉积（peald）是用等离子化的气态原子替代水作为氧化物来增强ald性能的先进方法。
更新时间:2025-04-30
德国sentech光伏测量仪mdpmap，灵活的自动扫描系统，是专为半导体晶片或部分工艺过的晶片的多功能、非接触和少子寿命测量而设计的。mdpmap能够连续地改变激发脉冲宽度，从非常短的脉冲(100ns)到稳态测量(几ms)，研究不同深度的缺陷动力学和少子寿命特性。直观的绘图软件适用于有效的常规测量以及复杂的研发应用。
更新时间:2025-04-30
100s接触角测量仪是采用光学成像的原理，通过图像轮廓分析方式测量样品表面接触角、润湿性能、表界面张力、表面能等性能，设备性价比高、功能全面、可满足各种常规测量需要。
更新时间:2025-04-30
德国kruss标准型dsa25接触角测量仪，接触角测量范围：0-180，接触角测量精度：±0.10，表界面张力测量范围：0-1000mn/m；测量精度：0.01 mn/m
更新时间:2025-04-30
ure-2000 系列紫外单面光刻机此系列包含六种型号：ure-2000a,ure-2000b,ure-2000/35,ure-2000/35a,ure-2000/25,ure-2000/17
更新时间:2025-04-30
208hr高分辨离子溅射仪-适用于场发射扫描电镜，可选择多种镀膜材料，精确的膜厚控制，样品台控制灵活，多个样品座，样品室几何可变，宽范围的操作压力，紧凑、现代的桌上型设计，操作容易。
更新时间:2025-04-30
ksi v-octo 八探头大型超声波扫描显微镜系统，该系统同时使用8只换能器，能最大限度的确保快速图像采集和高效能。
更新时间:2025-04-30
日本jeol热场发射扫描电子显微镜 jsm-7900f，它继承了上一代广获好评的性能如高的空间分辨率、高稳定性、多种功能等的同时，操作性能大简单化。该设备不依赖操作者的技能，始终能够发挥其佳性能。
更新时间:2025-04-30
日本jeol热场发射扫描电子显微镜 jsm-7900f，它继承了上一代广获好评的性能如高的空间分辨率、高稳定性、多种功能等的同时，操作性能大简单化。该设备不依赖操作者的技能，始终能够发挥其佳性能。
更新时间:2025-04-30
日本jeol能谱仪jed-2300/2300f analysis station是以“图像观察和分析“ 为基本理念的tem/eds集成系统。通过与sem的马达驱动样品台联动使用，可以进行大范围的观察和分析。 eds通过检测被电子束激发出的样品特征x射线，确定样品含有的元素及成分比，可以进行微区的点分析、线分析及面分析。
更新时间:2025-04-30
日本jeol扫描电子显微镜 jsm-it500，是jeol intouchscope系列的新机型。 从设定视野到生成报告，用于分析的软件整合于一体，加快了作业速度！是一款无缝操作，使用更加方便的扫描电子显微镜。
更新时间:2025-04-30
日本jeol 热场发射扫描电子显微镜 jsm-7200f，jsm-7200f的电子光学系统应用了日本电子旗舰机-jsm-7800f prime采用的浸没式肖特基电子枪技术，标配了ttls系统（through-the-lens system），因此无论是在高/低加速电压下，空间分辨率都比传统机型有了很大的提升。
更新时间:2025-04-30
新一代超高精度电子束光刻机 p21，样品尺寸覆盖 2/4/6 英寸晶圆，超高写场拼接精度，电子束闭环控制系统，束流的时间及空间稳定性高，高性能 30 kv 电子束光刻机。
更新时间:2025-04-30
德国 sentech si 500 d 等离子沉积机，具有特殊的等离子体特性，如高密度、低离子能量和介质膜的低压沉积。
更新时间:2025-04-30
德国sentech pecvd si 500 ppd等离子沉积机,。它是基于平面电容耦合等离子体源，真空加载锁定，控温基片电，可选配低频混频，全控无油真空系统采用先进的森泰克控制软件，采用远程现场总线技术，具有非常友好的通用用户界面用于操作si 500 ppd的用户界面。
更新时间:2025-04-30
pecvd depolab 200 等离子体沉积机,将平行板等离子体源设计与直接负载相结合,可以升为更大的抽油机、低频电源和额外的燃气管道。
更新时间:2025-04-30
sentech etchlab200 经济型反应离子刻蚀机(可升级)，包括抽速更大的真空单元、预真空室及附加气路等。
更新时间:2025-04-30
etchlab 200 rie等离子体蚀刻机是一种将rie平行板电设计的优点与直接负载的低成本设计相结合的直接负载等离子体蚀刻机系列。etchlab 200具有简单快速的样品加载功能，从零件到200a€‰mm或300a€‰mm直径的晶圆片直接加载到电或载体上。
更新时间:2025-04-30
entech rie si591 平板电容式反应离子刻蚀机，兼容多种氯基或氟基刻蚀工艺；小型化和高度模块化；sentech控制软件
更新时间:2025-04-30
德国sentech icp-rie si 500 等离子刻蚀机，代表了电感耦合等离子体(icp)加工在研究和生产上的先优势。它以ptsa等离子体源、动态控温基片电、全控真空系统、先进的sentech 控制软件为基础，采用远程现场总线技术，为操作si 500提供了非常人性化的通用用户界面。灵活性和模块化是si 500的设计特点。
更新时间:2025-04-30
sentech si 500 电感耦合等离子体icp干法刻蚀系统，感应耦合等离子刻蚀机台，低损伤纳米结构刻蚀，高速率刻蚀，内置icp等离子源，动态温控。
更新时间:2025-04-30
ure-2000系列紫外单面光刻机，主要型号有：ure-2000a，ure-2000b，ure-20000/35,ure-20000/35a，ure-2000/25,ure-2000/17.由中国科学院制造生产。
更新时间:2025-04-30
ure-2000/35 型紫外单面光刻机，中科院设计生产，曝光面积：4 英寸 ，非常适合工厂（效率高，操作傻瓜型，自动化程度高）和高校教学科研 （可靠性好，演示方便） 。
更新时间:2025-04-30
芬兰 picosun r-200标准型ald,为液体、气体和固体化学物提供的更高级的，易更换的前驱源系统，能够在晶圆、3d样品和各种纳米特性的样品上生长颗粒度最小的薄膜层。 在最基本的picosun™ r系列配置中可以选择多个独立的，完全分离的源入口匹配多种类型的前驱源。
更新时间:2025-04-30
德国 picosun p-1000 pro ald 生产型原子层沉积机,156 mm x 156 mm硅片800～1000片/批次（双面/背对背）,高达400 mm x 600 mm玻璃基板30～50片/批次（双面/背对背）,(w x h x d) 230 cm x 270 cm x 125 cm,标准设备验收标准为 al2o3 工艺.
更新时间:2025-04-30
picosun p-300 advanced ald 高级型原子层沉积机.156 mm x 156 mm硅片50～100片/批次（双面/背对背），高达300 mm x 300 mm玻璃基板10～20片/批次（双面/背对背）；roll-to-roll, 衬底最大宽 300 mm。全自动转载，用工业机器人实现,标准设备验收标准为 al2o3 工艺 .
更新时间:2025-04-30
picosun p-300b advanced ald 高级原子沉积机,基片尺寸和类型 300mm晶圆10片/批次（标准间距）,200mm晶圆25+2片/批次（标准间距）,(w x h x d) 149 cm x 191 cm x 111 cm,标准设备验收标准为 al2o3 工艺.
更新时间:2025-04-30
p-300s 生产线型原子层沉积机,最大300mm晶圆/单片,25片晶圆盒对盒式全自动装载（cassette-to-cassette），用picoplatform™ 300集群系统实现,尺寸：(w x h x d) 160 cm x 80 cm x 240 cm
更新时间:2025-04-30
p-300f,p-300bv 生产型原子层沉积机，p-300f pro: 27片晶圆盒对盒式全自动装载（cassette-to-cassette），用picoplatform™200集群系统实现。p-300bv pro: 52片晶圆盒对盒式全自动装载，用真空批量load lock实现。
更新时间:2025-04-30
最新产品
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- 植物原叶绿素酸酯氧化还原酶（POR）ELISA试剂盒 2025/4/30 20:18:51
- 植物酮戊二酸脱氢酶（OGDC）ELISA试剂盒 2025/4/30 20:17:33
- 植物抗氧化物酶（anti-oxe）ELISA试剂盒 2025/4/30 20:16:05
- 植物吲哚合成酶（YUCCA）ELISA试剂盒 2025/4/30 20:15:19
- 植物谷胱甘肽S转移酶（GSTs）ELISA试剂盒 2025/4/30 20:14:34
- 植物蓖麻毒素（Ricin）ELISA试剂盒 2025/4/30 20:12:53
- 植物葡萄糖醛酸苷酶（GD）ELISA试剂盒 2025/4/30 20:11:26
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- 植物胱氨酸（Cystine）ELISA试剂盒 2025/4/30 20:09:00
- 植物硬脂酰-ACP去饱和酶（SAD）ELISA试剂盒 2025/4/30 20:07:13
- 植物脂肪酸去饱和酶3（FADS3）ELISA试剂盒 2025/4/30 20:06:20