ST8000光学薄膜测厚仪是把UV-Vis光照在测量对象上,利用从测量对象中反射出来的光线测量膜的厚度的产品。 这种产品主要用于研究开发或生产导电体薄膜现场,特别在半导体及有关Display工作中作为 In-Line monitoring 仪器使用。ST8000光学薄膜测厚仪产品特性
1) 因为是利用光的方式,所以是非接触式,非破坏式,不会影响实验样品。
2) 可获得厚度和 n,k 数据。
3) 测量迅速正确,且不必为测量而破坏或加工实验样品。
4) 可测量3层以内的多层膜。
5) 根据用途可自由选择手动型或自动型。
6) 产品款式多样,而且也可以根据顾客的要求设计产品。
7)可测量 Wafer/LCD 上的膜厚度 (Stage size 6“ 8”, 12“ ...)
8)用于特殊领域(超精密,微小部位-0.2um2 ) a
薄膜测厚仪用于以下两个领域:它可用于测量金属箔片、塑料薄膜、纸板、纸张和其它薄片的厚度。第二个也是更重要的应用为测量薄基材上的涂层材料厚度。如果基材为非金属那么磁性或电子测量方法便不能应用。对于非破坏测量,此仪器是可能的测量差异方法。此仪器的一个特别重要的应用领域为:它可用于“Leneta”薄膜的耐擦洗测试。符合德国标准DIN 53 778第二部分和用于颜色测量与遮盖力的黑白对照卡。适用的仪器为:微处理控制涂膜和干燥时间计509/MC,仪力信耐擦洗仪494#,涂膜器288#、358#、360#、411#、421#,测试卡451#,亮度计517#。
测试原理薄膜的厚度可通过一个刚性表面和一个可提升弹簧压力的冲头之间测出,可直接从表盘上读出读数。
设计和功用497型薄膜测厚仪为一小型、便携、高精度的测量范围。它由带支撑面的测量托架、冲头,带零位设置的表盘、把手和拇指压力杆组成,托架刚度很高,把手和表盘之间绝热。仪器装在一个塑料保护盒中。
测试程序压下拇指杠杆,测试头将抬起,样品放在支持面和冲头之间,冲头慢慢放下,结果从刻度上读出。
技术数据净重: 约100 g测量范围: 0~1000 m0~200 m带1 m的分刻度读数精度: ±1 m颈部深度: 30 mm支持面尺寸: 约 6 mm,面积=约30 mm2 测量压力: 约1.2 N=约0.04 N/mm2
订货信息订货号 概述0014.01.31 497型薄膜测厚仪
活动范围 | 150 x 120mm(70 x 50mm 移动距离) |
测量范围 | 200å~ 35μm(根据膜的类型) |
光斑尺寸 | 20å 典型值 |
测量速度 | 1~2 sec./site |
应用领域 | 聚合体: pva, pet, pp, pr ... 电解质: 半导体: poly-si, gaas, gan, inp, zns... |
选择 | 参考样品(k-mac or kriss or nist) |
探头类型 | 三目探头 |
nosepiece | quadruple revolving mechanism with inward tilt |
照明类型 | 12v 35w halogen lamp built-in control device & transformer |
通过分析薄膜表面的反射光和薄膜与基底界面的反射光相干形成的反射谱,用相应的软件来拟合运算,得到单层或多层膜系各层的厚度d,折射率n,消光系数k。该设备关键部件均为国外进口,也可根据客户需要整机进口。
仪器特点
1 非接触式测量,用光纤探头来接收反射光,不会破坏和污染薄膜;
2 测量速度快,测量时间为秒的量级;
3 可用来测薄膜厚度,也可用来测量薄膜的折射率n和消光吸收k;
4 可测单层薄膜,还可测多层膜系;
5 可广泛应用于各种介质,半导体,液晶等透明半透明薄膜材料;
6 软件的材料库中整合了大量材料的折射率和消光系数,可供用户参考;
7 内嵌微型光纤光谱仪,结构紧凑, 光纤光谱仪也可单独使用。
参数和性能指标
厚度范围: 20nm-50um(只测膜厚),100nm-25um(同时测量膜厚和光学常数n,k)
度: <1nm或<0.5%
重复性: 0.1nm
波长范围: 380nm-1000nm
可测层数: 1-4层
样品尺寸: 样品镀膜区直径>1.2mm
测量速度: 5s-60s
光斑直径: 1.2mm-10mm可调
仪器成套性
测厚仪主体(内含光源和光纤光谱仪),光纤跳线,光纤探头,标准硅片,支撑部件,配套软件
可扩展性
通过光纤连接带有C口的显微镜,就可以使本测量仪适用于微区(>10um)薄膜厚度的测量。
强大的软件功能
界面友好,操作简便;
可保存测量得到的反射谱;
可读取保存的反射率数据;
可选择是否测量折射率n,消光系数k;
可选择光谱范围;
可猜测薄膜厚度以节省测量时间;
可从大量的材料库中选择薄膜和基底的材料;
用户可自己扩充材料库。
同类产品链接:
SGC-2 自动椭圆偏振测厚仪 http://www.tjgd.com/view/product.asp?id=147
SGC-1A 椭圆偏振测厚仪 http://www.tjgd.com/view/product.asp?id=50
一、产品简介 本测厚议适用于机械测量法测定塑料薄膜和薄片的厚度(不适用于压花的薄膜和薄片)。本测厚仪执行GB-T6672-2001标准。二、技术指标 量 程:0-1mm 分 度 值:0.001mm 上测头曲率半径:15-50mm 测头对试样施加负荷我:0.1-0.5N 测量精度:100vm以内<1vm 100-250vm<2vm 250vm<3vm
ST8000光学薄膜测厚仪是把UV-Vis光照在测量对象上,利用从测量对象中反射出来的光线测量膜的厚度的产品。 这种产品主要用于研究开发或生产导电体薄膜现场,特别在半导体及有关Display工作中作为 In-Line monitoring 仪器使用。ST8000光学薄膜测厚仪产品特性
1) 因为是利用光的方式,所以是非接触式,非破坏式,不会影响实验样品。
2) 可获得厚度和 n,k 数据。
3) 测量迅速正确,且不必为测量而破坏或加工实验样品。
4) 可测量3层以内的多层膜。
5) 根据用途可自由选择手动型或自动型。
6) 产品款式多样,而且也可以根据顾客的要求设计产品。
7)可测量 Wafer/LCD 上的膜厚度 (Stage size 6“ 8”, 12“ ...)
8)用于特殊领域(超精密,微小部位-0.2um2 ) a
通过分析薄膜表面的反射光和薄膜与基底界面的反射光相干形成的反射谱,用相应的软件来拟合运算,得到单层或多层膜系各层的厚度d,折射率n,消光系数k。该设备关键部件均为国外进口,也可根据客户需要整机进口。
仪器特点
1 非接触式测量,用光纤探头来接收反射光,不会破坏和污染薄膜;
2 测量速度快,测量时间为秒的量级;
3 可用来测薄膜厚度,也可用来测量薄膜的折射率n和消光吸收k;
4 可测单层薄膜,还可测多层膜系;
5 可广泛应用于各种介质,半导体,液晶等透明半透明薄膜材料;
6 软件的材料库中整合了大量材料的折射率和消光系数,可供用户参考;
7 内嵌微型光纤光谱仪,结构紧凑, 光纤光谱仪也可单独使用。
参数和性能指标
厚度范围: 20nm-50um(只测膜厚),100nm-25um(同时测量膜厚和光学常数n,k)
度: <1nm或<0.5%
重复性: 0.1nm
波长范围: 380nm-1000nm
可测层数: 1-4层
样品尺寸: 样品镀膜区直径>1.2mm
测量速度: 5s-60s
光斑直径: 1.2mm-10mm可调
仪器成套性
测厚仪主体(内含光源和光纤光谱仪),光纤跳线,光纤探头,标准硅片,支撑部件,配套软件
可扩展性
通过光纤连接带有C口的显微镜,就可以使本测量仪适用于微区(>10um)薄膜厚度的测量。
强大的软件功能
界面友好,操作简便;
可保存测量得到的反射谱;
可读取保存的反射率数据;
可选择是否测量折射率n,消光系数k;
可选择光谱范围;
可猜测薄膜厚度以节省测量时间;
可从大量的材料库中选择薄膜和基底的材料;
用户可自己扩充材料库。
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活动范围 | 150 x 120mm(70 x 50mm 移动距离) |
测量范围 | 200å~ 35μm(根据膜的类型) |
光斑尺寸 | 20å 典型值 |
测量速度 | 1~2 sec./site |
应用领域 | 聚合体: pva, pet, pp, pr ... 电解质: 半导体: poly-si, gaas, gan, inp, zns... |
选择 | 参考样品(k-mac or kriss or nist) |
探头类型 | 三目探头 |
nosepiece | quadruple revolving mechanism with inward tilt |
照明类型 | 12v 35w halogen lamp built-in control device & transformer |
一、BMH-J3数显薄膜测厚仪主要技术指标: 测量范围:(0-25)mm 分辨率:0.001mm 电源:氧化银电池SR44 工作温度:0℃~+40℃储运温度:-20~+70℃ 相对湿度:≤80% 二、BMH-J3数显薄膜测厚仪主要功能: 数据输出任意位置置零公英制转换自动断电