ST8000光学薄膜测厚仪

ST8000光学薄膜测厚仪是把UV-Vis光照在测量对象上,利用从测量对象中反射出来的光线测量膜的厚度的产品。 这种产品主要用于研究开发或生产导电体薄膜现场,特别在半导体及有关Display工作中作为 In-Line monitoring 仪器使用。ST8000光学薄膜测厚仪产品特性

1) 因为是利用光的方式,所以是非接触式,非破坏式,不会影响实验样品。

2) 可获得厚度和 n,k 数据。

3) 测量迅速正确,且不必为测量而破坏或加工实验样品。

4) 可测量3层以内的多层膜。

5) 根据用途可自由选择手动型或自动型。

6) 产品款式多样,而且也可以根据顾客的要求设计产品。

7)可测量 Wafer/LCD 上的膜厚度 (Stage size 6“ 8”, 12“ ...)

8)用于特殊领域(超精密,微小部位-0.2um2 ) a

该公司产品分类: 水质分析仪/多参数水质分析仪 其它基础仪表 其它测量/计量仪器 生物显微镜 激光拉曼光谱(RAMAN) 表面阻抗 蠕动泵 电化学工作站、恒电位仪 液体处理工作站(移液工作站) 在线测厚仪 生物芯片、芯片扫描仪、芯片点样仪、芯片检测仪 微波、电、磁学量的测量仪表 微流控芯片 等离子体表面处理仪 椭偏仪 锁相放大器 其它动物实验仪器 白光干涉测厚仪 扫描探针显微镜SPM(原子力显微镜AFM、扫描隧道显微镜STM) 紫外、紫外分光光度计、紫外可见分光光度计、UV

497型德国仪力信 497型薄膜测厚仪

目的和应用

薄膜测厚仪用于以下两个领域:它可用于测量金属箔片、塑料薄膜、纸板、纸张和其它薄片的厚度。第二个也是更重要的应用为测量薄基材上的涂层材料厚度。如果基材为非金属那么磁性或电子测量方法便不能应用。对于非破坏测量,此仪器是可能的测量差异方法。此仪器的一个特别重要的应用领域为:它可用于“Leneta”薄膜的耐擦洗测试。符合德国标准DIN 53 778第二部分和用于颜色测量与遮盖力的黑白对照卡。适用的仪器为:微处理控制涂膜和干燥时间计509/MC,仪力信耐擦洗仪494#,涂膜器288#、358#、360#、411#、421#,测试卡451#,亮度计517#。

测试原理

薄膜的厚度可通过一个刚性表面和一个可提升弹簧压力的冲头之间测出,可直接从表盘上读出读数。

设计和功用

497型薄膜测厚仪为一小型、便携、高精度的测量范围。它由带支撑面的测量托架、冲头,带零位设置的表盘、把手和拇指压力杆组成,托架刚度很高,把手和表盘之间绝热。仪器装在一个塑料保护盒中。

测试程序

压下拇指杠杆,测试头将抬起,样品放在支持面和冲头之间,冲头慢慢放下,结果从刻度上读出。

技术数据

净重: 约100 g测量范围: 0~1000 m0~200 m带1 m的分刻度读数精度: ±1 m颈部深度: 30 mm支持面尺寸: 约 6 mm,面积=约30 mm2 测量压力: 约1.2 N=约0.04 N/mm2

订货信息订货号 概述0014.01.31 497型薄膜测厚仪

薄膜测厚仪

活动范围150 x 120mm(70 x 50mm 移动距离)
 测量范围 200å~ 35μm(根据膜的类型)
 光斑尺寸 20å 典型值
 测量速度 1~2 sec./site
 应用领域

 聚合体: pva, pet, pp, pr ...

 电解质:

 半导体: poly-si, gaas, gan, inp, zns...

 选择 参考样品(k-mac or kriss or nist)
 探头类型 三目探头
 nosepiece quadruple revolving mechanism with inward tilt
 照明类型 12v 35w halogen lamp built-in control device & transformer

CH-1-S西安唯信 CH-1-S型薄膜测厚仪

一、产品简介    本测厚议适用于机械测量法测定塑料薄膜和薄片的厚度(不适用于压花的薄膜和薄片)。本测厚仪执行GB-T6672-2001标准。二、技术指标    量    程:0-1mm     分 度 值:0.001mm    上测头曲率半径:15-50mm    测头对试样施加负荷我:0.1-0.5N    测量精度:100vm以内<1vm              100-250vm<2vm              250vm<3vm

 

该公司产品分类: 唯信 气体分析仪 电砂浴 HS-19A型肖氏硬度计 恒温水箱 汽车检测仪器 孵化设备 环保仪器 电子天平 长度测量仪 显微镜 量具量仪 纺织仪器 造纸包装检测仪器 公路、建筑检测仪器 气体检测仪器 油漆涂料类检测仪器 实验室常用仪器 环境、水质检测仪器 光谱色谱仪

ST8000光学薄膜测厚仪

ST8000光学薄膜测厚仪是把UV-Vis光照在测量对象上,利用从测量对象中反射出来的光线测量膜的厚度的产品。 这种产品主要用于研究开发或生产导电体薄膜现场,特别在半导体及有关Display工作中作为 In-Line monitoring 仪器使用。ST8000光学薄膜测厚仪产品特性

1) 因为是利用光的方式,所以是非接触式,非破坏式,不会影响实验样品。

2) 可获得厚度和 n,k 数据。

3) 测量迅速正确,且不必为测量而破坏或加工实验样品。

4) 可测量3层以内的多层膜。

5) 根据用途可自由选择手动型或自动型。

6) 产品款式多样,而且也可以根据顾客的要求设计产品。

7)可测量 Wafer/LCD 上的膜厚度 (Stage size 6“ 8”, 12“ ...)

8)用于特殊领域(超精密,微小部位-0.2um2 ) a

该公司产品分类: 恒流泵 恒压恒流进样泵 微流控

薄膜测厚仪

活动范围150 x 120mm(70 x 50mm 移动距离)
 测量范围 200å~ 35μm(根据膜的类型)
 光斑尺寸 20å 典型值
 测量速度 1~2 sec./site
 应用领域

 聚合体: pva, pet, pp, pr ...

 电解质:

 半导体: poly-si, gaas, gan, inp, zns...

 选择 参考样品(k-mac or kriss or nist)
 探头类型 三目探头
 nosepiece quadruple revolving mechanism with inward tilt
 照明类型 12v 35w halogen lamp built-in control device & transformer

xy-ch600薄膜测厚仪

我公司长年供应薄膜测厚仪红外薄膜测厚仪的相关技术参数如下所示:一、系统功能:连续对薄膜断面扫描,给出厚度尺寸,计算机进行信号采集、数据处理、图形显示、报警等功能。二、系统配置:工控机、1200毫米宽平面扫描机构、探头、数据处理单元。工控机配置:8255卡、AD/DA卡,主板:FSC-1711VN/机箱:IPC810A/CPU:PⅣ2.4/内存:DDR256M/硬盘:80G/软驱:三星/光驱:52x/显示器:PHILIPS 107F5。三、具体指标:1、具有信号采集、计算机数据处理、图形显示、保存等功能;2、具有定点尺寸继电器报警输出;3、测量范围:0.2毫米以下;4、测量速度:300Hz;5、显示速度:2次/秒;6、测量分辨率:0.01um;测量精度:±0.1~0.5um;7、用户提供最大幅宽尺寸:1200毫米;8、质保期:发货之日起计算机一年,其余一年半。9、付款与供货:合同签订后一周内付全款的50%之后2周内发货,货到付全款的30%,验收合格后付全款的20%。西安星悦激光红外技术有限公司联系人:穆兵权 13201707632电话:029-85500318 85549436传真:029-85500318E-mail:mbqking@163.com网站:www.xylaser.com/mbq/index.htm

BMH-J3数显薄膜测厚仪

一、BMH-J3数显薄膜测厚仪主要技术指标: 测量范围:(0-25)mm 分辨率:0.001mm 电源:氧化银电池SR44 工作温度:0℃~+40℃储运温度:-20~+70℃ 相对湿度:≤80% 二、BMH-J3数显薄膜测厚仪主要功能: 数据输出任意位置置零公英制转换自动断电

该公司产品分类: 水质分析仪/多参数水质分析仪

薄膜测厚仪

红外薄膜测厚仪的相关技术参数如下所示:一、系统功能:连续对薄膜断面扫描,给出厚度尺寸,计算机进行信号采集、数据处理、图形显示、报警等功能。二、系统配置:工控机、1200毫米宽平面扫描机构、探头、数据处理单元。工控机配置:8255卡、AD/DA卡,主板:FSC-1711VN/机箱:IPC810A/CPU:PⅣ2.4/内存:DDR256M/硬盘:80G/软驱:三星/光驱:52x/显示器:PHILIPS 107F5。三、具体指标:1、具有信号采集、计算机数据处理、图形显示、保存等功能;2、具有定点尺寸继电器报警输出;3、测量范围:0.2毫米以下;4、测量速度:300Hz;5、显示速度:2次/秒;6、测量分辨率:0.01um;测量精度:±0.1~0.5um;7、用户提供最大幅宽尺寸:1200毫米;8、质保期:发货之日起计算机一年,其余一年半。9、付款与供货:合同签订后一周内付全款的50%之后2周内发货,货到付全款的30%,验收合格后付全款的20%。西安星悦激光红外技术有限公司联系人:穆兵权 13201707632电话:029-85500318 85549436传真:029-85500318E-mail:mbqking@163.com网站:www.xylaser.com/mbq/index.htm

光干涉薄膜测厚仪

应用领域
理论上讲,我们的光干涉膜厚仪可以测量所有透光或半透光薄膜的厚度。以下为我们最熟悉的应用领域(半导体薄膜,光学薄膜涂层,在线原位测量,粗糙或弧度表面测量):
□      晶片或玻璃表面的介电绝缘层(SiO2, Si3N4, Photo-resist, ITO, ...);
□      晶片或玻璃表面超薄金属层(Ag, Al, Au, Ti, ...);
□      DLC(Diamond Like Carbon)硬涂层;SOI硅片;
□      MEMs厚层薄膜(100µm up to 250µm);
□      DVD/CD涂层;
□      光学镜头涂层;
□      SOI硅片;
□      金属箔;
□      晶片与Mask间气层;
□      减薄的晶片(< 120µm);
□      瓶子或注射器等带弧度的涂层;
□      薄膜工业的在线过程控制;等等…
 
软件功能hspace=0
丰富的材料库:操作软件的材料库带有大量材料的n和k数据,基本上的常用材料都包括在这个材料库中。用户也可以在材料库中输入没有的材料。
软件操作简单、测速快:膜厚测量仪操作非常简单,测量速度快:100ms-1s。
软件针对不同等级用户设有一般用户权限和管理者权限。
软件带有构建材料结构的拓展功能,可对单/多层薄膜数据进行拟合分析,可对薄膜材料进行预先模拟设计。
软件带有可升级的扫描功能,进行薄膜二维的测试,并将结果以2D或3D的形式显示。软件其他的升级功能还包括在线分析软件、远程控制模块等。硬件升级hspace=0       hspace=0
多通道测试,最多支持8个独立的同时测试                       6英寸、12英寸扫描样品台
 
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         RTL透明样品专用夹具                           用于曲面结构的CSH探头
 
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            显微镜配适器不同型号及规格NanoCal-VIS           波长400 -850 nm, 膜厚50 nm.-20 μm (如SiO2 on Si)                               分光计,A/D转换器,USB和RS232接口,卤素光源,反射探针,软件NanoCal-NIR           波长650 -1100 nm, 膜厚70 nm.-70 μm                               分光计,A/D转换器,USB和RS232接口,卤素光源,反射探针,软件NanoCal-VIS/NIR    波长400 -1100 nm, 膜厚50 nm.-100 μm (选配1um-250um)                               分光计,A/D转换器,USB和RS232接口,卤素光源,反射探针,软件NanoCal-UV/VIS      波长250 -850 nm, 膜厚10 nm.-20 μm                                分光计,A/D转换器,USB和RS232接口,卤素光源,反射探针,软件NanoCal-FULL         波长250 -1100 nm, 膜厚10 nm.-70 μm                               分光计,A/D转换器,USB和RS232接口,卤素光源,反射探针,软件NanoCal-NIR-HR     波长700 -978 nm, 膜厚1um-250um(选配400um),高分辨分光                               计,A/D转换器,USB和RS232接口,卤素光源,反射探针,软件NanoCal-512-NIR    波长900 -1700 nm, 膜厚50 nm.-200 μm  InGaAs-512阵列分光                                 计,A/D转换器,USB和RS232接口,高能卤素光源,反射探针,软件NanoCal 软件                单层膜测量、模拟、分析,支持Windows环境;NanoCal MS 软件          多层膜测量、模拟、分析,支持Windows环境NanoCal Mapping软件   配合6”或12”扫描台使用,3D数据;NanoCal Online软件      在线原位分析软件;NanoCal Remote软件    远程控制软件模块

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