产品性能:
第六代 Phenom Pure 是一款使用高亮度 CeB6 灯丝的高分辨台式扫描电镜。放大倍数 175,000 倍,用于观察亚微米样品的微观结构。Pure 具有全自动操作、15 快速抽真空、不喷金观看绝缘体、2-3 年更换灯丝等特点,适用于传统大电镜待测样品的快速筛选,也适合于光学显微镜的分辨率无法满足需求的客户。
Phenom Pure 经济型标准版
产品参数
电子显微镜:175,000 倍
探测器:高灵敏度四分割背散射电子探测器
灯丝材料:1,500 小时 CeB6 灯丝
分辨率:优于 10 nm
放置环境:采用业防震设计,可摆放于普通实验室或办公室、厂房
加速电压:5kV 和 10kV
抽真空时间:小于 15
复纳科学仪器 (上海) 有限公司 (Phenom-Scientific),负责荷兰飞纳台式扫描电镜在中国市场的推广和销售,提供业的技术支持和测试服务,飞纳中国拥有业的服务团队,提供优化的解决方案;飞纳中国提出飞纳学校 (Phenom University)的概念,为用户提供从扫描电镜基础理论到 Level 5 应用工程师的进阶培训,在上海、北京、广州设立了测试中心和售后服务中心,目飞纳在中国已经拥有超过 1500 名用户。
| Delong America Inc. 荣誉出品 • 世界唯一的小型台式透射电子显微镜(TEM) • 世界唯一的多用途台式电子显微镜 • 透射电镜(TEM)、电子衍射(ED)、扫描电镜(SEM)、扫描透射电镜(STEM)四种成像模式 • 分辨率:2nm(TEM);3nm(SEM) • Schottky场发射电子枪:高亮度、高对比度 • 观察生物样品无需染色 • 体积仅为传统透射电镜1/10,价格仅为其1/5 |
台式设计:体积小巧,灵活性高,价格低 传统透射电子显微镜体积庞大,对放置环境有着严格的要求,并且需要制冷机等外置设备。通常会占据整间实验室。LVEM5从根本上区别于传统电镜,尺寸较传统电镜缩小了90%,对放置环境无严格要求,无需任何外置冷却设备,可以安装用户所需的任意实验室或办公室桌面。价格仅为传统电镜的1/5,是目前性价比最高的电子显微镜。 | |
Schottky场发射电子枪:高亮度/高对比度 电子枪类型是决定电镜性能的重要参数。LVEM5采用特殊设计的倒置肖特基(Schottky)场发射电子枪,提供高亮度高相干的电子束。电子枪使用寿命可达2000小时以上。 传统TEM多采用100kV以上电子束加速电压,高能电子束不能区分轻材料中相近的密度和原子序数,对于轻元素样品(C、N、O样品,生物样品)难以获得好的对比度,影响图像质量。 LVEM5采用5kV低电压设计,低电压电子束对密度和原子序数有很高的灵敏度,对于小到0.005 g/cm3的密度差别仍能得到很好的图像对比度。例如,对20nm碳膜样品,5KV电压下比100KV电压下对比度提高10倍以上。而LVEM5的空间分辨率在低电压下仍能达到2nm。 | |
未经染色的老鼠心脏切片在80kV透射电镜下得到的图像,与LVEM5下得到的图像。 LVEM5采用5kV低加速电压,图像具有更好的对比度 |
TEM-STEM-ED-SEM 四种成像模式 TEM模式 LVEM5是世界上唯一的台式透射电子显微镜,同时也是唯一的低加速电压(5kV)透射电镜。同传统透射电镜(80-200kV)相比,增加了电子束与样品的相互作用,从而提高了图像对比度 ? 提高了图像对比度 ? 无需重金属染色即可观察轻元素样品(如生物样品) ? 避免染色造成的假象,观察样品真实结构 分辨率2nm,放大倍数 5000-202,000x,图像采集:2048 x 2048SEM模式 扫描电镜(SEM)模式可用于观察任意固体样品。在SEM模式下,LVEM5采用4分割背散射探测器,提供多个观测角度。 普通扫描电镜在观察不导电样品时,需要对样品进行喷金、喷碳处理,以增加样品导电性。LVEM5的另一优点在于,无需喷金可直接观测不导电样品。 分辨率3nm,放大倍数 640x - 1,000,000x,图像采集:2048 x 2048 STEM模式 在扫描透射电子显微(STEM)模式下,电子束被聚焦到很小直径,在样品上进行扫描。可用于观察厚度较厚的样品或染色样品 ED模式 电子衍射(ED)可用于确定样品的晶体结构、结晶度、相组成. | |
TEM:细胞器 STEM:聚乙烯单晶 | ED:ZnO单晶 SEM:水凝胶 |
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用户列表 LVEM5在全球范围已拥有麻省理工、加州大学、乔治亚理工、慕尼黑大学、曼彻斯特大学等50多个用户。优异的性能为LVEM5赢得了用户的一片赞誉。 更多用户列表请点击 |
技术参数表 |
日本Hitachi在电子显微镜领域一向以引领技术潮流著称:1972年发布全球第一台场透射电子微镜,经过30多年的发展,日立开发、应用了大量的新技术,例如电子枪多重偏压、浸没式(In-lens)、半浸没式(Semi In-lens)物镜、E x B式探测器,电子减速功能等等。推出了一系列性能优异、应用广泛的新型号电镜,受到了用户的一致好评。Hitachi公司除在日本有自己的研法制造中心外,在北美和欧洲也拥有研究开发中心,在全球六十多个国家经营销售、技术支持和提供维修服务。 Hitachi公司将纳米尺度呈献给研究人员和生产厂商。 在成功推出S-3000系列后,推出新型S-3400N型钨灯丝SEM,它集成了Hitachi多年开发的新技术,例如新型电子枪、大锥角物镜、5分割半导体式背散射探头、物镜光阑自动合轴等等,极大地提高设备的性能和应用扩展能力、使操作和维护更加简易。 S-4800属于场发射SEM,它集成S-4700和S-5200型的优点,采用新型E x B式探测器和电子束减速功能提高了图像质量,特别是低电压的图像分辨率;新型的透镜系统,提供了高分辨模式、高束流模式、大工作距离模式、磁性样品模式等多种工作模式。 作为扫描电镜配套的能谱分析仪器,我们供应日本Horiba公司或美国EDAX公司的产品。 S-4800场发射SEM系统: 1. 分辨率:二次电子(SE)成像:高真空模式:1.0 nm (15KV)、1.4~2.0 nm (1KV)2. 放大倍率:低倍模式20 ~2,000倍;高倍模式100 ~800,800倍 3. 电子枪:冷阴极场发射电子源,束流1pA–2nA;加速电压:0.5~30 kV;3级电磁透射会聚系统 4. 样品室可容纳样品左右直径200 mm,同心样品台,四轴自动,可安装EDS、冷却台附件 5. 移动最大范围:X = 110 mm /Y = 110 mm /Z =1.5~40.0mm /R=360°;倾斜T:范围不小于-5°~70°(手动) 6. 探测器:二次电子检测器、固体背散射电子检测器;样品室 IR-CCD 相机 7. 图像扫描:不低于5120×3840像素;图像显示1280×960像素
紧凑型、模块化和智能化CCU-010 HV_CT-010为一款结构紧凑、全自动型的热蒸发镀碳设备,使用非常简便。采用独特的插入式设计,变换镀膜头非常简单。在镀膜之和/或之后,可以进行等离子处理(可选项)。模块化设计可轻松避免交叉污染。CCU-010标配膜厚监测装置。
特点和优点✬高性能蒸发镀碳和可选等离子处理✬有的自动碳源卷送设计–多达数十次碳镀膜,无需用户干预✬独特的即插即用蒸碳镀膜模块✬一流的真空性能和快速抽真空✬结构紧凑、可靠且易于维修✬双位置膜厚监控装置,可兼容不同尺寸的样品
巧妙的真空设计CCU-010 HV系列高真空镀膜仪涵盖了高的SEM,TEM和薄膜应用。特别选择和设计的材料、表面和形状可大大缩短抽真空时间。两个附加的标准真空法兰允许连接第三方设备。
CT-010碳蒸发模块紧凑的插入式碳蒸发模块为镀碳树立了新标杆。将该头插入CCU-010 HV镀膜主体后,即可立即使用,既适合EDS喷碳应用,更适合SEM、TEM和任何需要高质量碳膜应用的场合。CT-010使用欧洲有的、独特且技术先的碳绳卷轴系统,可以进行多达数十次涂层的镀膜,而无需更换碳源。一段碳绳蒸发后,新的一段会自动进,用过的碳绳会掉落到方便的收集盘中。除了易于使用外,自动卷轴系统还允许在一个镀膜循环内可控地沉积几乎任何厚度的碳膜。易于选择的镀膜模式可保障镀膜安全,从对温度敏感的样品进行温和的蒸镀薄膜到在FIB应用中厚膜层的高功率闪蒸镀碳。整合脉冲蒸发、自动启动挡板后除气及膜厚监控的智能电源控制提供了精确的膜层厚度,并可避免火花引起的表面不均匀。
GD-010辉光放电模块可选的GD-010辉光放电系统可快速安装,通过空气、氩气或其它用气体进行表面处理,例如,使碳膜亲水。本机可按顺序进行碳镀膜和辉光放电处理,无需“破”真空或更换处理头,大地简化了操作过程。本单元安装到CT-010,与所有样品台兼容。
ET-010等离子刻蚀单元在对样品进行镀膜之或镀膜之后,可选对样品进行等离子刻蚀处理。使用该附件,可以选择氩气、其它蚀刻气体或大气作为处理气体。这样可以在镀膜清洁样品,增加薄膜的附着力。也可在样品镀碳后进行等离子处理,从而对碳膜表面进行改性。
Coating-LAB软件(可选)使用基于PC的Coating-LAB软件,可查看包括图表信息在内的处理数据。数据包括压力、电流、电压、镀膜速率和膜厚,镀膜速率为实时曲线。便捷的软件升和参数设置让此智能工具更为完美。
RC-010手套箱应用的远程控制软件(可选)◎基于window的远程控制软件◎创建和调用配方◎实时图表,包含导出功能(Excel、png等)◎自动连接到设备
可选多种样品台CCU-010系列喷金喷碳仪提供一个直径不小于60mm的样品台,该样品台插入到高度可调且可倾斜的样品台支架上。可选其它用的旋转样品台、行星台、载玻片样品台等。
CCU-010 HV系列高真空镀膜仪及其版本CCU-010 HV 系列高真空镀膜系统为满足电镜样品制备域及材料科学薄膜应用的高要求而设计。CCU-010 HV 高真空镀碳仪采用优质组件和智能设计,可在超高分辨率应用中提供出色的结果。该设备是全自动抽真空和全自动操作,采用TFT 触摸屏,配方可编程,保证结果可重复。CCU-010 HV 标配抽真空系统完全无油,含高性能涡轮泵和隔膜泵,均位于内部,外部没有笨重的旋转泵和真空管路。这是一款尺寸合理的桌上型高真空镀膜仪。使用无油抽真空系统可将镀层中的污染或缺陷降至低。关闭时,该设备可以保持在真空下,这有效地保护了系统免受灰尘和湿气的影响,并为高质量的镀层创造了快速抽真空和有利的真空条件。
CCU-010 HV系列高真空镀膜仪版本:CCU-010 HV高真空磁控离子溅射镀膜仪;CCU-010 HV高真空热蒸发镀碳仪;CCU-010 HV高真空离子溅射和镀碳一体化镀膜仪;CCU-010 HV高真空手套箱用镀膜仪
CCU-010 HV 系列高真空镀膜仪的主要亮点在于实现了两大技术性突破:一是独家采用自动碳纤维卷绕系统,在每次蒸发后自动推进碳纤维,在不破真空更换碳源的情况下可进行数十次的镀碳运行,比市场上常见的单次、双次或四次碳纤维镀膜方式节省大量的人工操作,既适用于大多数常规镀碳应用,也适用于超薄或超厚碳膜以及温度敏感样品的应用。二是将“镀膜对样品表面进行等离子清洁(增加附着力)+镀膜+镀膜后对膜层表面进行改性(比如:亲水化)或刻蚀”全流程集于同一台仪器同一次真空下完成,大大提高了镀膜质量,拓宽了应用范围。另外,瑞士制造,是“精密”和“高品质”的代名词;瑞士原厂货源,覃思本地服务,客户买得放心、用得省心!
FERA3 XMU/XMH是TESCAN最新推出的一款超级聚焦离子束扫描电镜,以高品质,完全计算机控制,用户友好界面为基础的系列产品。这款聚焦离子束扫描电镜的FIB部分处理速度是普通FIB的50倍,而且具有使用方便,产品质量稳定,分析高效为特点的独创设计。该型号样品台行程大,可承受最大样品重量甚至可达10Kg,是现有样品台可载重最大的扫描电子显微镜。使用于航空航天,汽车配件,发动机等事业单位和研究单位,其超大的样品室和载重可为您带来无可比拟的便捷,使得对一些不方便进行切割等处理的样品的观察成为可能。
超级聚焦离子束扫描电镜,扫描电镜分析,透射扫描电镜超级聚焦离子束扫描电镜主要特点:
国内首家使用中文操作界面的电镜厂商 1.系统实现了电子束和离子束的共聚焦,有气体注入系统; 2.可以提供五种观察影像模式:分辨率模式;景深模式;视野模式;大视野模式,channeling模式,可以非常方便的寻找样品位置; 3.独创的低真空二次电子探测器(LVSTD). 4.红外线样品室内摄像装置,可以在测量同时观测样品; 5.真空系统采用一台机械泵和一台分子泵,FIB电子枪部分使用离子泵,抽真空速度快,在更换样品后,三分钟内就可达到待测状态;并且不需要使用冷却水冷却. 6.采用主动式电磁减震系统,对环境的要求更宽泛 7.先进的软件系统,在数据储存数据记录数据打印等方面具有多种创新功能. 8.完善的自动功能,能帮助您更快更好的获取图片 9.12个以上外扩展接口,可安装更多的附件10.可进行远程控制 超级聚焦离子束扫描电镜,扫描电镜分析,透射扫描电镜
产品说明、技术参数及配置 | |||
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透射扫描电镜检测实验技术服务技术服务介绍产品资料
透射电子显微镜在材料科学、生物学上应用较多。由于电子易散射或被物体吸收,故穿透力低,样品的密度、厚度等都会影响到后的成像质量,必须制备更薄的超薄切片,通常为50~100nm。所以用透射电子显微镜观察时的样品需要处理得很薄。常用的方法:超薄切片法、冷冻超薄切片法、冷冻蚀刻法、冷冻断裂法等。对于液体样品,通常是挂预处理过的铜网上进行观察。
扫描电镜主要用二次电子观察形貌,成像原理如图所示。在扫描电镜中,电子枪发射出来的电子束,经三个电磁透镜聚焦后,成直径为几个纳米的电子束。末透镜上部的扫描线圈能使电子束在试样表面上做光栅状扫描。试样在电子束作用下,激发出各种信号,信号的强度取决于试样表面的形貌、受激区域的成分和晶体取向。设在试样附近的探测器把激发出的电子信号接受下来,经信号处理放大系统后,输送到显象管栅以调制显象管的亮度。由于显象管中的电子束和镜筒中的电子束是同步扫描的,显象管上各点的亮度是由试样上各点激发出的电子信号强度来调制的,即由试样表面上任点所收集来的信号强度与显象管屏上相应点亮度之间是对应的。因此,试样各点状态不同,显象管各点相应的亮度也必不同,由此得到的象定是试样状态的反映。放置在试样斜上方的波谱仪和能谱仪是用来收集X射线,借以实现X射线微区成分分析的。值得强调的是,入射电子束在试样表面上是逐点扫描的,象是逐点记录的,因此试样各点所激发出来的各种信号都可选录出来,并可同时在相邻的几个显象管上显示出来,这给试样综合分析带来大的方便。
技术服务内容参数规格
编号 | 项目 | 价格 | 备注 |
1 | 扫描电镜观察 | 询价 | 我方提供试剂,每样拍5-8张图片 |
2 | 透射电镜观察细胞和组织(无特殊定位) | 询价 | 我方提供试剂,每样拍5-8张图片 |
3 | 电镜观察植物 | 询价 | 我方提供试剂,每样拍5-8张图片 |
4 | 电镜观察细菌 | 询价 | 我方提供试剂,每样拍5-8张图片 |
透射扫描电镜检测实验技术服务客户须知注意事项
电镜标本要求
1)透射电镜需客户提供1mm3 左右的组织块,取材部位要求尽量精准。
2)扫描电镜,需客户提供10*10*5mm大小的组织块。
3)如为细胞,细胞数需≥106
实验周期
20个工作日内(具体实验周期视实验设计方案而异)
公司介绍创凌生物直致力于生命医学和生物技术域的积累与沉淀,目创凌生物技术研发团队50余人,配备了先进的分析和检测设备,通过自主创新以及与国内外的科研单位合作研发,不断突破新技术,质量成熟,各类产品和技术服务赢得了众多科研机构的认可。
产品介绍:
日立全新一代热场发射扫描电镜SU5000继承了日立半导体行业扫描电镜CD-SEM高稳定性和易操作的特点,不仅具有强大的观察分析能力,同时具有全新的操作体验。SU5000既满足了专业电镜操作者对高分辨观察和分析的需求,也满足了电镜初学者对高质量图片的需求,是一台操作简便且功能强大的扫描电镜。
胡先生 158--6255 / QQ: 122-600-6936
主要特点:
? 高稳定性热场发射电子枪
? 全新的EM Wizard软件,无需设置参数即可获得高质量图片
? 高分辨率和强大的分析能力
? 样品适用性强:不导电样品直接观察(低真空功能,10-300Pa)
? 全新的multi-finder功能,方便快捷的寻找样品
? 附件功能强大:拉伸台,冷热台,电子束曝光,红外CCD,离子束清洁系统等。
样品台温度控制范围 | +70℃ to -30℃,分辨率 +/- 1℃ |
典型的操作温度 | 3 分钟内从室温+25℃ 降至-25℃ |
温度显示精度 | 0.1℃ |
温度稳定度 | 0.2℃ |
控制单元体积 | 137mm H x 235mm W x 260mm |
样品尺寸 | 正常样品大小, 最大直径为 25mm |
X,Y 正常物台 | 保持移动功能倾斜:X射线分析正常移动(典型为45 |
工作距离 | +/- 25mm |
旋转 | 大于180° |
电源 | 230V单相,5 Amp max |
货号 | 产品名称 | 规格 |
90100 | EMS25 Cooling Stage | 台 |