最新技术的兆声和清洗技术的发展,对mems和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了最新的水平,可以帮助用户获得最干净的晶圆片和掩模版。nano-master提供兆声单晶圆&掩模清洗(swc)系统,用于最先进的无损兆声清洗。可以适用于易受损的带图案或无图案的基片,包含带保护膜的掩模版。为了在确保不损伤基片的情况下达到最优化的清洗效果,兆声能量的密度必须保持在稍稍低于样片上任意位置上的损伤阈值。nano-master的专利技术确保了声波能量均匀分布到整个基片表面,通过分布能量的最大化支持最理想的清洗,同时保证在样片的损伤阈值范围内。
更新时间:2025-01-06