真空溅射蒸镀用品产品及厂家
桌面式小型蒸镀仪kt-z1650cvd，一款桌面式真空蒸镀仪，外形小巧便于携带，7寸触摸屏控制，工艺储存，自动电动挡板保护样品。
更新时间:2024-11-14
高低温真空探针台kt-z160t-rl，真空高低温探针台系统，使用国际上先进的温度控制系统和传感器，温度范围为77.15k至673.15k（-196摄氏度到400摄氏度），温度稳定性可达0.1k。
更新时间:2024-11-14
小型坩埚真空蒸镀仪kt-z1650cvd电阻式热蒸发镀膜机是郑州科探仪器设备有限公司生产，台式设计、软件自动操控、高性价比，非常适合实验室科研使用。 通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面。
更新时间:2024-11-14
小型真空钨舟热蒸镀仪kt-z1650cvd是一款小型多功能镀膜仪，额定1800度高温，自动样品挡板，靶台旋转，触摸屏多段控制，工艺储存等功能。
更新时间:2024-11-14
砖瓦爆裂蒸煮箱zsa-5a一、砖瓦爆裂蒸煮箱简介：本产品按照国家gb5101-85关于砖瓦石灰爆裂试验的要求而设计制造的。能自动控制箱体内水温100℃ 的时间，温度数显，时间数显，内胆进口不锈钢板制作
更新时间:2024-09-06
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更新时间:2024-07-31
砖瓦(石灰)爆裂蒸煮箱一、简介：本产品按照国家gb5101-85关于砖瓦石灰爆裂试验的要求而设计制造的。能自动控制箱体内水温100℃ 的时间，温度数显，时间数显，内胆进口不锈钢板制作。砖瓦爆
更新时间:2024-07-21
卷绕式真空蒸镀设备 ew系列塑料薄膜、纸、金属箔等连续卷绕的同时，对金属和氧化物进行蒸镀的成膜设备。从小型的实验机到大量的生产设备，此外，还提供一系列用于包装材料，电容器，磁带等其他应用的型号。
更新时间:2024-06-27
砖瓦爆裂蒸煮箱zsa-5a一、砖瓦爆裂蒸煮箱简介：本产品按照国家gb5101-85关于砖瓦石灰爆裂试验的要求而设计制造的。能自动控制箱体内水温100℃ 的时间，温度数显，时间数显，内胆进口不锈钢板制作
更新时间:2024-06-25
zsx-51砖瓦爆裂蒸煮箱 砖瓦(石灰)爆裂蒸煮箱 一、砖瓦爆裂蒸煮箱 砖瓦(石灰)爆裂蒸煮箱简介：本产品按照国家gb5101-85关于砖瓦石灰爆裂试验的要求而设计制造的。能自动控制箱体内水
更新时间:2024-05-13
nte-3000热蒸发系统概述：nano-master nte-3000是一款pc计算机控制的台式热蒸发系统，在有机物和金属沉积方面具有广泛的应用。设备的设计经过非常慎重的考虑:在小的占地面积情况下实现干净、均匀、可控及可重复的工艺过程。它们具有低价格, 高性能以及高能力的特点，可满足于客户研发及小规模生产的应用要求。 nte-3000热蒸发系统可以在设定的rms电流下，或者在闭环的配置下操作，并且在这种情况下沉积速度的变化被用于调节rms电流以维持恒定的沉积速度。
更新时间:2024-03-28
nano-master杰出的溅射系统可构建成多腔体和多蒸发源的配置，在介质上溅射金属和介质材料，最大可支持200mm的衬底。系统可以配置dc直流、rf射频和pulse dc脉冲直流等电源来进行序列溅射或共溅射。 系统使用涡轮分子泵组，工艺腔极限真空可达5 x 10-7torr。可以通过调节靶基距，实现所需要的均匀度和沉积速率的调节。旋转样品台可提供薄膜最优的均匀性。
更新时间:2024-03-28
砖瓦爆裂蒸煮箱zsa-5a一、砖瓦爆裂蒸煮箱简介：我厂生产砖瓦爆裂蒸煮箱，本产品按照国家gb5101-85关于砖瓦石灰爆裂试验的要求而设计制造的。能自动控制箱体内水温100℃ 的时间，温度数显，时间数
更新时间:2023-12-12
小型蒸镀仪介绍： kt-z1650dm小型蒸镀仪是一款小型台式加热功率可控蒸发镀膜仪，仪器虽小功能齐全，配备有电压 电流反馈,样品台旋转，样品高度调节，及电动挡板功能。通过定时调
更新时间:2023-10-14
小型蒸镀仪 郑科探kt-z1650cvd是一款小型台式加热功率可控蒸发镀膜仪，仪器虽小功能齐全，配备有电压 电流反馈,样品台旋转，样品高度调节，及电动挡板功能。通过定时调节预热功率及蒸发功率，可对大部
更新时间:2023-10-06
桌面式高温蒸镀仪小型蒸镀仪是一种在真空条件下加热蒸发容器中待蒸发材料的方法，以使原子或分子蒸发并从表面逸出以形成蒸气流，进入基材或基材表面，然后凝结成固体膜。 小型蒸镀仪包括以下基本过程： （1）
更新时间:2023-09-26
高温真空蒸镀仪，是一款小型真空镀膜仪，特别适合蒸镀一些轻金属，如 al. mg, 和li等。同时也可对样品进行镀碳处理，z大可处理的样品直径为50mm.。标准的旋转样品台可进行倾斜调节，非常容易适应各
更新时间:2023-09-17
小型蒸镀仪郑州科探仪器kt-z1650cvd是一款小型台式加热功率可控蒸发镀膜仪，仪器虽小功能齐全，配备有电压 电流反馈,样品台旋转，样品高度调节，及电动挡板功能。通过定时调节预热功率及蒸发功率，可对
更新时间:2023-08-06
小型蒸镀仪小型台式溅射功率可控磁控溅射仪，仪器虽小功能齐全，配备有电压 电流反馈,样品台旋转，样品高度调节，及电动挡板功能。 小型蒸
更新时间:2023-08-04
小型蒸镀仪郑州科探仪器kt-z1650cvd是一款小型台式加热功率可控蒸发镀膜仪，仪器虽小功能齐全，配备有电压 电流反馈,样品台旋转，样品高度调节，及电动挡板功能。通过定时调节预热功率及蒸发功率，可对
更新时间:2023-07-19
小型蒸镀仪郑州 科探kt-z1650cvd，台式设计、软件自动操控、高性价比，非常适合实验室科研使用。 通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为热蒸发镀膜，热蒸发镀膜技术是历史最悠久的pvd镀膜技
更新时间:2023-07-16
小型真空钨舟热蒸镀仪kt-z1650cvd是一款小型多功能镀膜仪，额定1800度高温，自动样品挡板，靶台旋转，触摸屏多段控制，工艺储存等功能。正空蒸发镀膜包括以下基本过程：（1）加热蒸发过程：包括由凝
更新时间:2023-07-13
桌面式小型蒸镀仪kt-z1650cvd台式设计、软件自动操控、高性价比，非常适合实验室科研使用。 通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为热蒸发镀膜，热蒸发镀膜技术是历史最悠久的pvd镀膜技术之
更新时间:2023-07-01
小型蒸镀仪 郑州科探kt-z1650cvd是我公司专为科研院所及实验室用户群体设计开发的一款小型高真空蒸发镀膜系统。采用大抽速分子泵准无油高真空系统，机架电控一体化设计，整体布局紧凑合理，充分考虑人机
更新时间:2023-06-25
小型坩埚真空蒸镀仪kt-z1650cvd小型蒸镀仪 郑州科探kt-z1650cvd，台式设计、软件自动操控、高性价比，非常适合实验室科研使用。 通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为热蒸发镀膜，
更新时间:2023-06-12
郑科探小型蒸镀仪-热蒸发源：电阻式热蒸发舟，交流电源；-腔体：不锈钢或石英腔体可供客户选择；-泵：前级干泵，分子泵；工艺控制：pc/plc机制的自动控制、数据处理、工艺记忆储存；-衬底固定：单衬底固定
更新时间:2023-06-01
真空小型蒸镀仪kt-z1650cvd ? 设备一体化设计，占地面积小，*，性能稳定，使用维护成本低；? 设备兼容有机蒸发与无机蒸发，多元共蒸获得复合膜/分蒸获得多层膜，功能强大，
更新时间:2023-05-27
郑科探小型蒸镀仪-热蒸发源：电阻式热蒸发舟，交流电源； - 腔体：不锈钢或石英腔体可供客户选择； - 泵：前级干泵，分子泵； - load lock样品传输腔室：手动或自动传输，高真空，支持多种样品衬
更新时间:2023-05-25
粉末坩埚蒸镀仪铬是受欢迎的金属之一。铬是一种银色，有光泽，坚硬，含杂质的铬硬而脆，具有很高的耐腐蚀性。它的熔点为1857℃，密度为7.2g / cm3，。它的名字来自希腊语“chroma”，意思是颜色
更新时间:2023-05-24
高纯度金颗粒蒸镀仪采用电子束蒸镀金膜时,会有微小的黑色颗粒出现在金膜的表面,这些黑色的颗粒形状大多不规则,尺寸集中在100 nm～-1μm之间,传统的蒸镀理论较难解释这些黑色颗粒的成因。本文尝试提出液
更新时间:2023-05-09
我公司生产的二氧化锆产品为真空镀膜材料，包括：各种规格的二氧化锆压片，白色二氧化锆，高纯二氧化锆。二氧化锆镀膜材料性能：放气量小，适于电子枪蒸发，膜层致密，牢固，抗化学腐蚀，用于多层膜、增透膜、 装饰膜 、反射防止膜。规格大小可以根据客户要求而做。同时我公司还生产各种氧化锆陶瓷件。
更新时间:2023-04-23
电阻式热蒸发镀膜机 电阻式热蒸发镀膜机是郑州科探仪器设备有限公司生产，台式设计、软件自动操控、高性价比，非常适合实验室科研使用。 通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面小型蒸镀仪郑州科探kt-z165
更新时间:2023-04-17
小型蒸镀仪是一款小型台式加热功率可控蒸发镀膜仪器，可对大部分金属进行蒸发沉淀，制备各种金属薄膜和有机物薄膜。
更新时间:2023-03-29
乔邦镀银镀金镀镍xd-1000技术指标1. 元素分析范围：氯（cl）- 铀（u）2. 涂镀层分析范围：氯（cl）/锂（li）- 铀（u）3. 厚度检出限：0.005μm4
更新时间:2022-06-26
不同的蒸发速率下沉积300nm的au薄膜,研究蒸发速率对薄膜表面形貌和性能的影响。随着蒸发速率的提高,薄膜的结构变得致密,晶粒尺寸和表面粗糙度减小。高纯度金靶材磁控溅射仪kt-z1650pvd在较短时间内即可形成具有细粒度的均匀薄膜，仪器结构紧凑，全自动控制，设计符合人体工程学。
更新时间:2022-04-27
粉末坩埚蒸镀仪kt-z1650cvd是我公司为科研院所及实验室用户群体设计开发的一款小型高真空蒸发镀膜系统。蒸发源可兼容金属、有机物蒸发、金属粉末等。配有样品挡板，可手动或自动开/关挡板，达到及时遮挡样品效果；触摸屏控制，操作简单，更有工艺储存等功能。
更新时间:2022-04-27
真空镀铜蒸镀仪kt-z1650cvd是一款小型高真空蒸发镀膜系统。蒸发源可兼容金属、有机物蒸发。广泛应用于高校、科研院所制备功能薄膜、蒸镀电、扫描电镜制样等。镀铜可打底用，增进电镀层附着能力，及抗蚀能力。
更新时间:2022-04-27
以铜 (cu) 溅射靶材为例.在制备铜溅射靶时,不可避免地会引入硫、铅等其他杂质含量.微量的硫可以防止热加工时晶粒尺寸增大或产生微裂纹;但当硫元素含量高于18 ppm时,会出现微裂纹;随着两种杂质元素(硫和铅)，铜靶材镀膜溅射仪kt-z1650pvd为台式磁控溅射镀膜机，仪器结构紧凑，全自动控制，设计符合人体工程学，所得结果一致，可重复性高
更新时间:2022-04-27
银是一种柔软，有光泽的元素，属于元素周期表中的金属过渡族。它的熔点为961.78℃，密度为10.49g /cm3.银的理化性质均较为稳定，导热、导电性能很好，质软，富延展性。银的理化性质均较为稳定，导热、导电性能很好，质软，富延展性。其反光率高，可达99%以上。银靶材离子溅射仪kt-z1650pvd在较短时间内即可形成具有细粒度的均匀薄膜，仪器结构紧凑，全自动控制，设计符合人体工程学。
更新时间:2022-04-27
三氧化二铝磁控溅射仪kt-z1650pvd为台式磁控溅射镀膜机在较短时间内即可形成具有细粒度的均匀薄膜。仪器结构紧凑，全自动控制。利用直流磁控溅射和射频磁控溅射技术，进行某传感器基底al2o3薄膜绝缘层的制备工艺及性能研究，对于指导薄膜传感器工艺设计及应用的快速发展，具有十分重要的理论意义及较好的工程应用价值。
更新时间:2022-04-27
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