其他产品及厂家

MaskTrack Pro 掩膜版清洗系统
掩模的完整性对高标准光刻工艺的成功起主要作用。masktrack pro 掩膜清洗处理系统满足下一代光刻节点在掩模清洗、烘烤和显影工艺方面的所有标准。它是应对 193i 1x half-pitch dpt、紫外光刻 (euvl) 和纳米压印光刻 (nil)高要求的创新解决方案。以创新技术大限度地提高光掩模性能。
更新时间:2024-08-13

最新产品

热门仪器: 液相色谱仪 气相色谱仪 原子荧光光谱仪 可见分光光度计 液质联用仪 压力试验机 酸度计(PH计) 离心机 高速离心机 冷冻离心机 生物显微镜 金相显微镜 标准物质 生物试剂