涂胶显影设备所有不同的厂家

涂胶显影设备产品及厂家

FX88全自动涂胶机

fx88全自动涂胶机适用于4~6英寸晶圆的涂胶和涂源。设备全自动上下片，全自动定中心，全自动滴胶，全自动烘烤。

更新时间:2024-10-24

该公司产品分类：无锡凡宣机电设备有限公司

KS-S150星型全自动涂胶显影机

ks-s150星型全自动涂胶显影机用于led-pss工艺的涂胶显影制程及化合物半导体的涂胶显影等制程。可兼容蓝宝石、砷化镓和碳化硅等材质的晶圆，产品涉及多个应用域，涂胶机产能大于190片/小时。设备通过了csa认证。

更新时间:2024-08-14

该公司产品分类：深圳市矢量科学仪器有限公司

KS-FT200/300 道8/12寸涂胶显影机

ks-ft200/300系列堆叠式高产能道涂胶显影机，为我司自主研发的突破晶圆道28nm工艺节点及以上工艺制程，适用于arf、krf、i-line、pi、barc，soc，sod，sog等多种材料涂覆显影工艺的机台。支持与光刻机联机作业。该系列机台通过各种行业认证，占地面积小、可靠性高、易于维护，满足各种功能芯片制程需求。

更新时间:2024-08-14

该公司产品分类：深圳市矢量科学仪器有限公司

KS-S300-SP12寸喷雾式涂胶机

ks-s300全自动喷雾式涂胶机通过超声波将光阻雾化为微小颗粒，适用于在大深宽比的图形表面以高分辨率均匀地涂敷光刻胶，可以有效覆盖沟槽的侧壁和边缘，避免沟槽堆积，节省光刻胶；同时针对轻薄易碎的衬底，承片台静态喷雾式涂胶可以避免衬底在高速旋转时碎裂的风险。产品可应用于封装、微机电系统制造等域。该产品已通过semi s2认证。

更新时间:2024-08-14

该公司产品分类：深圳市矢量科学仪器有限公司

KS-M300涂胶显影半自动机台

ks-m300半自动机台可用于单片晶片涂胶、显影、喷胶、清洗、刻蚀、去胶工艺及掩膜板涂胶、显影、清洗工艺。适用于小批量生产的工艺试验和生产线。占地面积小，操作时手动上下片，工艺过程可自动完成。

更新时间:2024-08-14

该公司产品分类：深圳市矢量科学仪器有限公司

KS-CM300/200单片式化学清洗机

ks-cm300/200 单片式化学清洗机适用于沉积清洗、蚀刻后清洗、离子注入后清洗、cmp后清洗等多种段工艺（feol）和后段工艺（beol）清洗进程，可适配高温spm工艺，工艺覆盖率达80%以上；搭载独立开发的新一代高清洗效率低损伤射流喷嘴，洁净度达到先进制程所需水平。

更新时间:2024-08-14

该公司产品分类：深圳市矢量科学仪器有限公司

KS-S300-SR单片清洗机

用于晶圆封装及oled中的清洗工艺，配合清洗化学药液、高压水清洗、常压水清洗、兆声波清洗、二流体水清洗、毛刷和喷洒清洗剂等手段，可有效去除晶圆表面颗粒、有机物、金属离子等杂质，同时适用于tsv后深孔内含氟聚合物的清洗。

更新时间:2024-08-14

该公司产品分类：深圳市矢量科学仪器有限公司

KS-C30012寸集束型涂胶显影机

ks-c300涂胶显影机可用于封装、 mems、oled等域的涂覆显影制程，每小时可加工180片晶片，同时产品可兼容不同材质的晶片如硅、玻璃片、键合片、化合物等。产品可应用于逻辑类、存储类芯片、摄像头芯片、功率器件芯片、oled制造等域。国产化集成电路设备的成功应用为客户节约了大量成本。产品通过semi s2认证。

更新时间:2024-08-14

该公司产品分类：深圳市矢量科学仪器有限公司

KS-CF300/200-8SR全自动SCRUBBER清洗机

清洗机可以用于对晶圆表面，背面及晶圆边缘的清洗，通过创新研发的二流体喷嘴技术可将附着在晶圆表面的细微颗粒污染物去除，实现高效去除。通过大量仿真与工艺试验相结合，优化出佳的清洗工艺参数，确保不损伤晶圆表面的图形；对于微米别大颗粒，采用特殊材料的毛刷或高压喷淋对晶圆进行擦洗去除。配合晶圆翻转装置和夹持式承片台，可在同一台设备中实现对晶圆的正反两面进行清洗。

更新时间:2024-08-14

该公司产品分类：深圳市矢量科学仪器有限公司

DM200-SE全封闭式桌面显影机

钙钛矿用涂膜机，配备4.3寸全彩触屏，操作便捷。采用硬质阳氧化铝面板，带真空吸附，确保涂膜稳定。精准控制移动速率，提高涂膜重复性。可选配多种涂膜工具，适应不同需求。风刀角度与高度可调，工艺灵活。是高效、精密的涂膜解决方案。

更新时间:2024-08-13

该公司产品分类：深圳市矢量科学仪器有限公司

PF200-H钙钛矿用涂膜机

更新时间:2024-08-13

该公司产品分类：深圳市矢量科学仪器有限公司

HP100-SE标准型程控烤胶机

lebo science hp100-se程控烤胶机，7寸触屏plc控，硬质阳氧化铝面板，优异性能，业服务，实验理想之选。

更新时间:2024-08-13

该公司产品分类：深圳市矢量科学仪器有限公司

HP100-HT-CTM高温型烤胶机

hp100-ht-ctm高温型烤胶机，不锈钢镀陶瓷加热，触屏控温，独立电路，隔热设计，安全耐用，高温均匀，适合精密实验。

更新时间:2024-08-13

该公司产品分类：深圳市矢量科学仪器有限公司

HP6精密型烤胶机

hp6精密型烤胶机，全铝机身，高精度控温，独立电路，真空吸附，数显温控，可选线性控温，小巧便携，适合手套箱使用。

更新时间:2024-08-13

该公司产品分类：深圳市矢量科学仪器有限公司

IC8000-S控温型匀胶机

控温型匀胶机，性能优秀，业服务，高品质材料，安全设计，桌面实验理想选择，为科学仪器域的优选产品

更新时间:2024-08-13

该公司产品分类：深圳市矢量科学仪器有限公司

PCD3012BPCD3012B低谐波高功充因数分段线性恒流LED控制芯片

pcd 3012b 是一款五段低 pcd 3012b 是一款五段低 thd 、高功率因数 led 线性恒流控制芯片，芯片集成了 700v 高压 mosfet ，采用独特创新的器件工艺技术，具有优越的抗雪崩击穿及浪涌能力，在无保护器件时可通过650v 雷击浪涌测试，内置过温保护功能，提升系统应用可靠性。可通过调节rext 电阻值对输出电流进行调节。同时pcd3012b 集成了输入线电压补偿功能，在

更新时间:2024-05-23

该公司产品分类：深圳市集芯微电子有限公司

FX86系列全自动显影机

本机采用plc控制，性能更稳定，故障率低，维修更方便；增加了手动功能，可以单步侦测每个单元的动作。人机界面采用触摸屏，全中文界面，友好，易学，简单培训就可以上机操作。主体电机采用饲服和步进，稳定可靠，不产生颗粒。喷头采用双流体实心锥喷头，高效省液。液盘采用ptfe底座和不锈钢外壳，不会变形，易清理。

更新时间:2024-01-24

该公司产品分类：无锡凡宣机电设备有限公司

WS-650Mz-23NPPBLaurell 匀胶旋涂仪

laurell匀胶旋涂仪 ws-650mz-23nppb 技术参数：（1）腔体尺寸：9.5英寸 (241 毫米)；（2）wafer芯片尺寸：10-150mm直径圆片，方片125x125mm；（3）转动速度：100-12,000rpm；（4）旋涂加速度：1-12000rpm/sec（空载）；（5）马达旋涂转速：稳定性能误差<± 1 %；

更新时间:2023-08-03

该公司产品分类：武汉月忆神湖科技有限公司

POLOS Advanced系列湿法刻蚀处理系统

湿法刻蚀处理系统又称自动显影系统、自动刻蚀系统、自动去离子水清洗系统、显影刻蚀系统、匀胶显影机、自动刻蚀机、显影刻蚀机、显影台、湿法刻蚀台、显影刻蚀台等。polos advanced系列湿法处理系统可实现涂胶、刻蚀、显影、清洗等多种工艺，适用于半导体、化工材料、硅片、导电玻璃等制版的表面显影。

更新时间:2023-08-03

该公司产品分类：武汉月忆神湖科技有限公司