无掩模光刻机/直写光刻机产品及厂家
无掩模光刻机vpg 300 di是一款体积图案发生器，为在 i 线光刻胶中直接写入高分辨率微结构而设计。它源自掩模制作工具，具有所有先进的 vpg 系统组件，能够以高的精度和准确度进行书写。大写入区域覆盖 300 mm 晶圆。
更新时间:2024-08-14
dwl 2000 gs / dwl 4000 gs 激光光刻系统是快速、灵活的高分辨率图形发生器。它们针对工业灰度光刻进行了优化，设计用于集成电路、mems、微光学和微流体器件、传感器、全息图以及钞票的防伪特征的掩模和晶圆的高通量图案化。
更新时间:2024-08-14
mpo 100双光子聚合直写光刻机是一种双光子聚合 （tpp） 多用户工具，用于微结构的 3d 光刻和 3d 显微打印，适用于微光学、光子学、微机械学和生物医学工程。模块化 3d 打印平台 mpo 100 可按需提供高精度 3d 光刻以及 3d 显微打印的高打印量，并能够在单个工艺步骤中以高吞吐量生产复杂的功能性微结构。
更新时间:2024-08-14
speed系列是高速版的无掩膜版紫外光刻机，其无掩膜光刻机配备了先进的高速空间光调制器以及高功率紫外激光器。这一系列的光刻机不仅保证了高精度和高灵活性，更在这一基础上，拥有了更高的光刻效率。其的性能特点使其特别适合小批量生产的场景。在该场景中，它能够发挥出其高效的优势，为生产带来更高的效率和更好的质量。
更新时间:2024-08-14
bio系列是生命科学版的无掩膜紫外光刻机，该设备具有更高的深宽比，能满足生命科学域的特殊需求。它主要用于制备像微流控芯片之类的具有特定需求的样品 。在微流控芯片的制造过程中，其高深宽比和高灵活性的特点得以展现，可确保芯片的质量和性能。这使得它成为生命科学研究和相关应用中的重要工具。
更新时间:2024-08-14
pg 300 di 是一款体积图案发生器，为在 i 线光刻胶中直接写入高分辨率微结构而设计。它源自掩模制作工具，具有所有先进的 vpg 系统组件，能够以高的精度和准确度进行书写。大写入区域覆盖
更新时间:2024-08-14
ultra半导体光掩模光刻机是门用于成熟半导体光掩模的合格激光掩模机。半导体光掩模用于制造电子设备，包括微控制器、电源管理、led、物联网 （iot） 和 mems。ultra 是一种经济型光刻机解决方案，具有高吞吐量、精度和结构均匀性以及其精确的对准所需的所有特性和功能。标准配置包括全自动掩模处理、zerodur® 平台、低失真光学元件和高精度位置控制等功能。
更新时间:2024-08-14
mla 300 无掩模光刻机 提供高吞吐量、简化的工作流程以及与制造执行系统 （mes） 的集成。该工具用于生产传感器和传感器 ic、mems 和微流体器件。其他应用包括分立电子元件、模拟和数字 ic、asic、电力电子、oled 显示器和先进封装。
更新时间:2024-08-14
els-boden σ这是elonix自创业以来多年来一直致力于开发的新型号的电子束光刻设备。 采用模块系统，可以自由组合加速电压、腔室尺寸、传输机构和防振台，为每个应用构建佳单元。
更新时间:2024-08-09
els-hayate是由elionix研发的超高吞吐量电子束光刻设备，提供业界大的 5 毫米偏转。，非常适合需要关注字段间拼接错误的应用。
更新时间:2024-08-09
实验室搅拌机系列e30-h电动数显搅拌器（型）e30-h应用领域|上海小型无刷搅拌机*_e30-h适用于生物、理化、化妆品、保健品、食品、试剂等实验领域。是液体混和搅拌的实验设备。产品理念设计新颖、制
更新时间:2024-06-09
dali无掩膜纳米光刻机是一款采用亚纳米精度激光操控技术为核心的超稳定，桌面型，高精度，高速激光直写设备。其核心技术已经在在亚纳米精度要求的仪器设备中经过十几年的应用检验。超高精度，和超高稳定性是dali无掩膜纳米光刻机实现高性能的基础。
更新时间:2023-08-18
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