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卷对卷溅射系统
本装置在真空状态中对pet film,以ito或metal coating的设备, heating, plasma etching, sputter工序可以.
更新时间:2024-08-15
部件镀膜设备
在高真空环境中,我们发明了一种创新的in-line sputter生产技术,实现了高大量生产率和出色的品质。这款1carrier/20sheet(a4 size)产品采用了both side sputtering工艺,不仅提高了生产效率,还确保了优异的光学性能,透过率可达25%以上。
更新时间:2024-08-15
金属有机化学气相沉积
propel hvm gan mocvd 系统,用于电源、5g 射频和光子学,单晶圆反应器技术为电源、5g 射频和光子学应用提供高效、高质量的氮化镓基器件
更新时间:2024-08-13
热原子层沉积系统
scaler hk430 热原子层沉积系统填孔能力以及良好的薄膜均匀性
更新时间:2024-06-21
高密度等离子体化学气相沉积系统
orion proxima 高密度等离子体化学气相沉积系统填孔能力以及高沉积速率
更新时间:2024-06-21

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