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其它产品及厂家

真空镀膜机，脱模剂烤箱

真空镀膜机，脱模剂烤箱应用于半导体、光电、电子行业，硅片、石英等纳米压印模板材料

更新时间:2024-12-25

该公司产品分类：上海隽思实验仪器有限公司

HMDS涂胶系统，HMDS涂胶烤箱

hmds涂胶系统，hmds涂胶烤箱

更新时间:2024-12-25

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PI固化专用厌氧烘箱，聚酰亚胺固化炉

pi固化专用厌氧烘箱，聚酰亚胺固化炉应用聚酰亚胺时需要注意的问题是厚度控制和亚胺化处理。

更新时间:2024-12-25

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200kg黑蒜机，Black garlic machine

200kg黑蒜机，black garlic machine，the black garlic fermentation equipment adopts the enzymatic reaction fermentation black garlic processing method, and the enzymatic fermentation is continuously carried

更新时间:2024-12-25

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抗粘剂蒸镀机，抗粘层镀膜机

抗粘剂蒸镀机，抗粘层镀膜机在基片与弹性支撑层之间还形成有抗黏层，抗黏层般由全氟辛基三氯硅烷或全氟癸基三氯硅烷形成。

更新时间:2024-12-25

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全氟辛基三氯硅烷涂胶机，抗粘剂PFTS真空烘箱

全氟辛基三氯硅烷涂胶机，抗粘剂pfts真空烘箱主要用于纳米压印光刻（nil）应用，防粘涂层的制备，可用于光刻工艺中hmds增粘剂涂胶；以及功率半导体,led,mems,半导体分立器件等硅烷沉积涂胶工艺。

更新时间:2024-12-25

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真空无氧烘箱，高温无氧真空烤箱

真空无氧烘箱，高温无氧真空烤箱用于pi胶、bcb胶固化，键合材料预处理，ito膜退火，pr胶排胶固化等特殊工艺。适用于电子液晶显示、lcd、cmos、ic、pcb板、半导体封装、医药、实验室等生产及科研部门。

更新时间:2024-12-25

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无氧烘箱，智能双层无氧烘箱

无氧烘箱，智能双层无氧烘箱应用于精密电子元件、光刻胶固化、电子陶瓷材料烘干的特殊工艺要求，模拟线性升温环境，特别适合半导体制造、cob封装、pcb板烘烤、医疗卫生、柔性线路板印刷、精密模具退火等行业的无氧化干燥烘烤工艺要求，

更新时间:2024-12-25

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光刻工艺HMDS镀膜机，功率MOS器件HMDS镀膜机

光刻工艺hmds镀膜机，功率mos器件hmds镀膜机

更新时间:2024-12-25

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HMDS预处理系统，晶圆HMDS烤箱

hmds预处理系统，晶圆hmds烤箱在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。

更新时间:2024-12-25

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HMDS烘箱，hmds预处理烘箱

hmds烘箱，hmds预处理烘箱将hmds涂到样品表面后，经烘箱加温可生成硅氧烷为主的化合物，将样品表面由亲水性变为疏水性，此疏水性能够很好的与光刻胶结合，增加了样品表面与光刻胶的粘附作用。

更新时间:2024-12-25

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无氧烤箱，厌氧烘箱

无氧烤箱，厌氧烘箱广泛用于航空、航天、石油、化工、电子、通讯等科研及生产单位做材料、零件、设备等的高温洁净和无氧干燥及老化试验。

更新时间:2024-12-25

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智能型HMDS烘箱，全自动HMDS预处理系统

智能型hmds烘箱，全自动hmds预处理系统预处理性能更好，更加均匀；效率高,一次可以处理多达4盒的晶片；更加节省药液；低液报警、防药液泄漏等具有很强的安全保护功能；，有可自动吸取添加hmds功能，智能型的程式设定，一键完成作业。

更新时间:2024-12-25

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HMDS镀膜烤箱，HMDS真空镀膜系统

hmds镀膜烤箱，hmds真空镀膜系统预处理性能更好，更加均匀；效率高,一次可以处理多达4盒的晶片；更加节省药液；低液报警、防药液泄漏等具有很强的安全保护功能；，有可自动吸取添加hmds功能，智能型的程式设定，一键完成作业。

更新时间:2024-12-25

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无氧烤箱，氮气烤箱

无氧烤箱，氮气烤箱工作室内充满了惰性气体n2,防止材料在烘烤时被氧化。无氧烤箱箱主要用于：ic包装，lcd,晶体管，传感器，二极管，石英晶体振荡器，混合集成电路板等电子、ic、医疗卫生、仪器仪表、工厂、高等院校、科研等部门。

更新时间:2024-12-25

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高温无氧化烤箱，半导体制程烤箱

高温无氧化烤箱，半导体制程烤箱用于pi、bcb胶高温固化烘烤。整个箱体结构分为：膛体组件、箱架组件和热风组件三个部分，膛体腔，内表面全镜面设计，风道由左、右、后导风板与箱体内壁组合而成，膛体顶部有排风管道。

更新时间:2024-12-25

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蒸汽老化试验机，半导体蒸汽老化测试仪

蒸汽老化试验机，半导体蒸汽老化测试仪适用于电子连接器、半导体ic、晶体管、二极管、液晶lcd、芯片电阻电容、零组件产业电子零组件金属接脚沾锡性试验前的老化加速寿命时间试验;半导体、被动组件、零件接脚氧化试验。

更新时间:2024-12-25

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PCT高压老化试验机，半导体高压加速老化试验箱

pct高压老化试验机，半导体高压加速老化试验箱是利用加压的饱和蒸汽对产品进行加速老化的设备，适用于电子，表面处理，磁性材料，ic，半导体，pcb，包装材料等各个相关行业使用。

更新时间:2024-12-25

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IC氮气烤箱，光刻间用烤箱

ic氮气烤箱，光刻间用烤箱工作室内充满了惰性气体n2,防止材料在烘烤时被氧化。无氧烤箱箱主要用于：ic包装，lcd,晶体管，传感器，二极管，石英晶体振荡器，混合集成电路板等电子、ic、医疗卫生、仪器仪表、工厂、高等院校、科研等部门。

更新时间:2024-12-25

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LED专用烤箱，LED光电烤箱

led专用烤箱，led光电烤箱四门精密烤箱采用独特的结构设计，外形美观，内部结构合理。外壳采用1.5mm厚冷轧钢板折弯而成，表面高温喷塑烤漆处理（环保户外粉），耐腐蚀，防生锈，烤箱上下平均分成四层，每层配有独立打开的小门，每层烤箱门板上装有壹个拉手，方便每层托盘可独立拿出，门边四条，使炉外温度不烫手。

更新时间:2024-12-25

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PI胶高温固化烤箱，半导体PI固化炉

pi胶高温固化烤箱，半导体pi固化炉用于pi高温固化烘烤。广泛应用于微电子工业中的半导体器件表面的保护、密封、应力缓冲保护和半导体器件表面钝化、内涂料、层间绝缘和介电薄膜材料以及液晶显示器的液晶分子取向膜材料，对改善器件性能、提高器件可靠性，具有防潮、防金属离子迁移、防污染，降低漏电流，同时对器件的引线、焊点等薄弱部位具有增固加强的作用。所以，pi的固化工艺非常重要。

更新时间:2024-12-25

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LED气相成底膜处理系统，气相成底膜真空烘箱

led气相成底膜处理系统，气相成底膜真空烘箱目前在led芯片制造中用hmds成膜处理一般是在一个集脱水烘焙和气相成膜两种作用的真空腔中进行,这种方法可以实现批量处理。待处理晶片放在真空腔中的热板上,用氮气作为载气将hmds蒸气通入腔室中,达到预先设定的压力对晶片进行成膜处理,完毕后将腔室中的气体抽空,然后通氮气到常压。js-hmds预处理系统对预处理过程的工作温度、工作真空度、处理时间、处理时

更新时间:2024-12-25

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silicon wafer HMDS烤箱，HMDS OVEN

silicon wafer hmds烤箱，hmds oven通过对烘箱预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层hmds，降低了hmds处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。

更新时间:2024-12-25

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HMDS pretreatment system, HMDS oven

hmds pretreatment system, hmds oven reducing the contact angle of the silicon wafer after hmds treatment the amount of photoresist to improve the adhesion of photoresist and silicon.

更新时间:2024-12-25

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晶圆烤箱，超洁净烤箱

晶圆烤箱，超洁净烤箱工作室内充满了惰性气体n2,防止材料在烘烤时被氧化。无氧烤箱主要用于：ic包装，lcd,晶体管，传感器，二极管，石英晶体振荡器，混合集成电路板等电子、ic、医疗卫生、仪器仪表、工厂、高等院校、科研等部门。

更新时间:2024-12-25

该公司产品分类：上海隽思实验仪器有限公司

软烘烤箱，硅片烤箱

软烘烤箱，硅片烤箱工作室内充满了惰性气体n2,防止材料在烘烤时被氧化。无氧烤箱主要用于：晶圆、硅片、玻璃等制程烘烤，ic包装，lcd,晶体管，传感器，二极管，石英晶体振荡器，混合集成电路板等电子、ic、医疗卫生、仪器仪表、工厂、高等院校、科研等部门。

更新时间:2024-12-25

该公司产品分类：上海隽思实验仪器有限公司

硅片HMDS涂布机台，4寸Wafer hmds烤箱

在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。

更新时间:2024-12-25

该公司产品分类：上海隽思实验仪器有限公司