x 射线光电子能谱(xps)是材料科学和发展的领域中最广泛使用的表面分析技术。其原理是利用x射线束(一般会使铝阳极或镁阳极)作为入射源,照射在样品表面导致让光电子从原子的核心层被激发出。根据测得的光电子所发出的电子动能,再依照能量守恒定律就可以知道电子的结合能,从而也就可知道样品表面是何物质。the phi 5000 versaprobe ii (vp-ii) 能提供高性能的微区光谱,化学成像,二次电子成像,其最小的x射线束光栅扫描直径约为10微米。x射线束的大小可以轻易的使用电脑控制在直径10微米到400微米设定,从而达到最好的空间解释度与最高的灵敏度。vp-ii 可以轻易的对不管是导体或非导体获取化学态的成像 或是离子溅射的深度分析,样品例子如催化剂,金属和电子设备,玻璃和聚合物,甚至是生物材料和组织等等。
phi quantera ii 扫描x射线光电子能谱仪(xps)是ulvac-phi公司以在业界获得非常卓越成绩的quantum 2000和quantera sxm之上延申后所zui新研发的xps分析仪器,其超卓技术包括有:一个独创微集中扫描的x射线来源,专利的双光束的电荷中和技术,在极低电压下仍可保持高性能的离子束源以进行xps的深度分析,一个五轴精密的样品台和负责全自动样品传送的机械手臂,与及一个完全自动化且可支持互联网远程控制的仪器操作平台。quantera ii 扫描x射线光电子能谱仪(xps)增加了这些技术性能和生产力,再一次提供了zui高性能的xps系统,以满足您当前和未来的xps需要。