大气颗粒物采样器产品及厂家
英国emresist电子束光刻胶smlresist,sml50,sml100,sml300,sm600,sml1000,sml2000
更新时间:2024-12-30
e-beam电子束光刻胶：hsqxr-1541-006,z520,pmma,。ebl6000系列，ma-n2400系列。纳米压印胶：mr-nil6000e,mr-l900m,mr-uvcur21。光固化胶：ormo系列。
更新时间:2024-12-30
德国allresist特殊工艺用光刻胶，电子束曝光导电胶，耐酸碱保护胶，聚酰亚胺胶（耐高温保护胶），全息光刻用胶，长波曝光胶，深紫外曝光胶等特殊工艺用胶。
更新时间:2024-12-30
德国allresist电子束光刻胶（电子束抗蚀剂）e-beamresist电子束正胶：pmma胶，pmma/ma聚合物，liga用胶等。电子束负胶：高分辨率电子束负胶，化学放大胶（高灵敏度电子束胶）等。
更新时间:2024-12-30
美国rkd化学开封机eliteetch7000机器尺寸(mm)：190x320x305温度范围1)发烟硫酸：25c-250c2)发烟硝酸：25c-90c3)混酸：25c-100c(eliteetch)4)混酸(利)：10c-100c(eliteetchcu)抽酸流量:1-8ml/minute蚀刻头组件:固定式碳
更新时间:2024-12-30
eppendorf5810/5810r离心机以其一贯品质和可靠性能，为您中等到高通量离心提供最佳解决方案。5810/5810r离心机不仅具有功能多和容量大的基本特点，而且占地面积小，可以离心各类试管和工作板。
更新时间:2024-12-30
wiggens离心机全部由德国oem工厂按照设计要求定制生产。德国工厂具有30多年专业生产离心机和其它生物科学产品的经验，拥有多项相关技术领域的专利。wiggens离心机产品齐全，型号多样，丛小型台式离心机到大型落地式离心机，最高转速达16500rpm，最大容量可达3l，多种角转子、水平转子、垂直转子可选。
更新时间:2024-12-30
qsight三重四极杆液质联用仪具有自清洁功能的专利设计，减少对日常维护的需求。与其他质谱产品相比，可获得更多的仪器运行时间（35天/年）。采用双离子源的设计，避免了多路联用方法开发的复杂性，拥有更短的样品运行时间，从而提高了生产效率。同时，利用真空压力差产生层流传输离子，具有更好的灵敏度和系统稳定性，从而无需样品浓缩，并获得更高的重现性。
更新时间:2024-12-30
xevotq-s为最严苛的uplc/ms/ms定量应用而设计。串联四极杆质谱仪的终极性能让使用xevo平台的所有人获得无可比拟的灵敏度和稳定性。
更新时间:2024-12-30
thermoscientifictmtsqquantumultratm是赛默飞设计精良的经典三重四极杆质谱仪，集定量分析所需求的灵敏度、选择性和重复性于一体。可用于食品、生物基质等复杂体系痕量成分的准确定量，是tsqquantum家族中的高端产品。
更新时间:2024-12-30
离子色谱分析系统（ic-2010）采用了东曹自行开发的凝胶抑制方式，是搭载了自动进样器的一体化高性能离子色谱仪分析系统。简单的操作系统与专用高分辨率色谱柱的完美结合，可以高速，高灵敏度并且简便地测定阴离子和阳离子。此外，配备的专用系统控制及数据解析的离子色谱工作站，更提供了极为简便地仪器控制功能以及高可信度的测定环境。
更新时间:2024-12-30
thermoscientificdionexics-5000+hpic高压离子色谱：世界上首款毛细管高压、“只加水”离子色谱系统。全新的模块设计具有极大的灵活性、功能更全面，操作更简便，其完美卓越的性能将色谱分析带入一个新的更高境界，分辨率更佳，分析速度更快。通过毛细管系统以及分析系统整合组成的ics-5000+高压离子色谱系统，能应对未来潜在的挑战以及高级应用，该系统提高了工作效率，扩展了工作能力、提高了色谱性能。
更新时间:2024-12-30
940系列谱峰思维tm离子色谱仪的出现，标志着离子色谱新时代的到来。该系列离子色谱仪在保障非常好系统可靠性和非常简便仪器可操作性的同时，还为客户提供非常灵活的系统定制方案。它是迄今非常灵活、可信、简便的离子色谱系统。
更新时间:2024-12-30
thermoscientificdionexintegrion（in）hpic，系统采用viper接头、合理的流式管路布局和灵活配置，专门围绕实验室中的流程难题而直观设计、精心打造。高效dionexionpac4μm离子色谱柱。更高分辨率、更快分析速度挑战分离极限。小颗粒可以在较宽的流速范围内提供更高的柱效。
更新时间:2024-12-30
岛津长久以来一直致力于提高hplc的分析性能。同时，岛津认识到，整体效率不仅取决于某一台仪器的性能，更需要统筹管理实验室内的所有设备。如今，在这个将人工智能（ai）整合到仪器设备中的时代，岛津解决方案切实实现了真正意义上自动检测。此外，通过物联网（iot）与仪器设备进行网络化集成，将使实验室管理变得更加直观，仪器状态确认更加简便，资源配置得以更加优化。
更新时间:2024-12-30
“chromaster”是一个新造词，取自英文单词chromatograph（色谱）和master（大师）。这个词表达了日立公司的一个美好愿景，那就是开发和提供一套顶级的、性能卓越的液相色谱系统。作为一个强有力的工具，它将为那些受过专业训练、“大师级”的色谱工作者做出更大贡献！
更新时间:2024-12-30
具备集成智能功能的agilent7890b气相色谱系统以安捷伦40多年的气相色谱经验为基础。7890b气相色谱系统的先进功能可帮助用户在更短的时间内获得更多的分析结果，其高质量设计和可靠性可保证系统在未来数年内始终处于高性能水平。
更新时间:2024-12-30
ellutia新型快速气相色谱仪，采用专利的毛细管柱直接加热技术，无需配备柱温箱，即可实现色谱柱的快速加热和冷却效果。与传统气相色谱以“分”来计算运行时间不同，这是一种真正意义上的快速气相色谱，运行时间可用“秒”来计算！
更新时间:2024-12-30
agilentintuvo9000气相色谱系统彻底改变了用户执行气相色谱分析的方式，开辟了全面提高运行效率和业务成果的新途径。intuvo秉承了安捷伦气相色谱的卓越性能和稳定性，并采用重要的关键创新技术，一举打破了现有的重重操作限制，大大简化了操作、降低了运行成本并延长了仪器的正常运行时间。
更新时间:2024-12-30
nexisgc-2030气相色谱仪配备了全新智能交互界面，仅需触屏即可完成仪器操作并可以实时了解仪器运行状态。创新clicktek技术全面提升用户分析体验，使色谱柱的安装和仪器维护进入徒手时代。检测器灵敏度较之上一代产品有了进一步提升，可以进行高可靠性和高精度的痕量分析，使重现性更胜一筹。柱温箱功能全面优化，使用效率有显著提升的同时还使能耗有效降低。根据需求定制化系统更可以满足个性化分析诉求。
更新时间:2024-12-30
全新一代axiachemisem扫描电镜，采用独特方法进行样品成分信息的采集、处理和展示；依托先进镜筒技术，保持系统始终处于最佳状态，可聚焦样品采集数据，随时提供高质量图像；采用全开门式设计，耐用性和灵活性更高；可搭载多款扫描电镜软件实现多种自动化功能；简约化设计，全方面性能出色，可表征各种不同类型材料，提供最全面的信息。其成像平台即时可用，集成独特的实时定量能谱面分析功能，成像即刻并融合成分信息，专为快速分析而设计，操作轻松自如。
更新时间:2024-12-30
该台式可见光分光光度计具有直观的彩色触摸屏操作界面，并可直接在屏幕上显示哈希程序的操作提示。加上直观的量程柱状图显示，比色皿的自动识别和错误报警，以及新增的aqa功能等人性化设计都能为您带来全新的使用体验，减少了再次确认的额外工作，让客户对测试结果更有信心。dr3900台式可见光分光光度计是市场上唯一既能够涵盖监管要求链、又能与在线仪器之间很好地关联起来。可广泛应用于工业，市政，环保，教育等领域
更新时间:2024-12-30
nano-master提供兆声单晶圆&掩模清洗(lsc)系统，用于最先进的无损兆声清洗。可以适用于易受损的带图案或无图案的基片，包含带保护膜的掩模版。为了在确保不损伤基片的情况下达到最优化的清洗效果，兆声能量的密度必须保持在稍稍低于样片上任意位置上的损伤阈值。nano-master的专利技术确保了声波能量均匀分布到整个基片表面，通过分布能量的最大化支持最理想的清洗，同时保证在样片的损伤阈值范围内。
更新时间:2024-12-30
nte-4000（m）热蒸发系统概述：nano-masternte-4000是一款pc计算机控制的台式热蒸发系统，在有机物和金属沉积方面具有广泛的应用。设备的设计经过非常慎重的考虑:在小的占地面积情况下实现干净、均匀、可控及可重复的工艺过程。
更新时间:2024-12-30
npe-3500pecvd等离子体化学气相沉积系统概述：nano-masterpecvd系统能够沉积高质量的sio2,si3n4,或dlc薄膜到最大可达12”直径的基片上.该系统采用淋浴头电极或中空阴极射频等离子源来产生等离子，具有分形气流分布的优势.样品台可以通过rf或脉冲dc产生偏压。
更新时间:2024-12-30
plasmacleaner等离子清洗机npc-4000（m）等离子清洗机概述：nano-master等离子刻蚀和清洗系统是专门设计用来满足晶圆批处理或者单晶片处理的广泛应用，从晶圆的光刻胶剥离到表面改性都涉及到。该系列的设备采用pc控制，可以配套不同的等离子源，加热或不加热基片夹具,具有独一无二的能力:可以从pe等离子刻蚀切换到rie刻蚀模式,也就是说可以支持各向同性和各向异性的各种应用。np
更新时间:2024-12-30
rie反应离子刻蚀机nre-3500（a）全自动rie反应离子刻蚀机概述：独立式rie反应离子刻蚀系统，淋浴头气体分布装置以及水冷rf样品.具有不锈钢柜子以及13"的上盖式圆柱形铝腔,便于晶圆片装载.腔体有两个端口:一个带有2"的视窗,另一个空置用于诊断.该系统可以支持最大到12"的晶圆片。
更新时间:2024-12-30
picomasterxf500-h是一款具有超高精度的多功能紫外激光直写设备，它具有每毫米超过1200条线的输出能力，特别适合用户在光敏层上自由地创造微结构。独有的全息设计软件，提供了许多预先安装的全息效果及其光栅、结构的运算方法，它们可以很轻松地将把这些效果组合起来，十分利于用户的产品开发。同时软件也允许用户添加自己的算法和结构，来定制数据库、完善产品设计。
更新时间:2024-12-30
picomaster200无掩模激光直写光刻机●250纳米分辨率（375纳米激光源）●300纳米分辨率（405纳米激光源）●4095灰阶●业界最具实力的成套全息设计软件●最大230x230毫米基板尺寸picomaster200是一款具有超高精度组件的多功能紫外激光写入器，专为用户提供在感光层中创建最高自由度的微结构而设计。
更新时间:2024-12-30
dymax5000-ec系列紫外光固化面光源适用于固化光强需求高、固化速度高的紫外光胶粘剂、涂层和油墨。
更新时间:2024-12-30
品牌：恩科优（n&q）型号：nxq800-6产地：美国恩科优光刻机分为半自动和全自动两大系列。其中，n&q8000系列光刻机是以自动系统为主。该系统优越的操作性，超高的分辨率，均匀的光学系统，现代先进的接近式和接触式光刻及超高的性价比，使恩科优光刻系统已经被全国各地众多著名企业、研发中心、研究所和高校采用，并成为他们光刻系统的首选。
更新时间:2024-12-30
品牌：恩科优（n&q）型号：nxq400-8产地：美国恩科优光刻机分为半自动和全自动两大系列。其中，n&q4000系列光刻机是以半自动系统为主。该系统优越的操作性，超高的分辨率，均匀的光学系统，现代先进的接近式和接触式光刻及超高的性价比，使恩科优光刻系统已经被全国各地众多著名企业、研发中心、研究所和高校采用，并成为他们光刻系统的首选。
更新时间:2024-12-30
真空快速退火炉as-oneas-one是一种通用的rtp系统，可用于开发快速热退火和快速热cvd工艺。可以搭配分子泵实现高真空下热处理工艺。最高温度1500℃，最快升温速率200℃/second。
更新时间:2024-12-30
紫外臭氧清洗工作原理：清洗设备的核心是低压石英汞灯，产生254和185nm范围的紫外线。臭氧和等离子氧气产生，有机污染物分子在吸收254nm波长紫外线后被激发或分解。激发的有机污染物可以和等离子氧原子反应形成气体，比如co2,h2o等。整个过程在室温**发生，并且只需要1到几分钟完成。
更新时间:2024-12-30
原子层沉积（atomiclayerdeposition)是一种可以将物质以单原子膜形式一层一层的镀在基底表面的方法。原子层沉积与普通的化学沉积有相似之处。但在原子层沉积过程中，新一层原子膜的化学反应是直接与之前一层相关联的，这种方式使每次反应只沉积一层原子。
更新时间:2024-12-30
适用于3英寸晶圆的划片划片机100是一款独特的设备，设计用于划分精密模具，例如gaas和硅芯片。划片机100非常灵活，使用划线和断裂顺序，使成品模具保持清洁，不受损坏。
更新时间:2024-12-30
m-hp200热板用于烘烤和回火加热晶圆片或基板。该热板适用于直径最大为8英寸的晶圆片或最大6英寸x6英寸的衬底。内置模块可轻松用于湿式工作台。工艺参数（温度，加热时间）可以随时更改。热板温度可在20c和250c之间调节。可在1到999秒之间设置处理时间。
更新时间:2024-12-30
匀胶显影机(英文名：developing)产地：美国一、产品概述：650型匀胶显影机适应于半导体、化工材料、硅片、晶片、基片、导电玻璃等工艺，制版的表面显影。
更新时间:2024-12-30
benchtopplasmacleaner小型等离子清洗系统pdc32g和pdc002hpc系列小型等离子清洗系统是台式等离子处理设备领域当之无愧的主导者，我们专为实验室研发提供性价比高的小型等离子清洗设备，已经有30多年的丰富经验。harrick等离子体表面处理仪的应用范围：*清洗电子元件、光学器件、激光器件、镀膜基片、芯片。*清洗光学镜片、电子显微镜片等多种镜片和载片。
更新时间:2024-12-30
涂是一种广泛使用的多功能技术，用于将材料沉积到基材上，从而获得精确可控的薄膜厚度。该款匀胶旋涂仪价格实惠，操作简单，结构小巧紧凑，占地空间小，为实验室提供了理想的解决方案。该款匀胶旋涂仪采用创新专利设计的托盘，无需真空泵或充氮气，就能达到很好的旋涂效果；内置调整水平装置，最大限度的保证旋涂均匀；可对大小不同规格的基片进行旋涂。
更新时间:2024-12-30
匀胶机产品特点:1、稳定的转速和快速启动，可保证胶厚度的一致性和均匀性；2、转速在12000转/分范围内稳定，美国国家标准技术研究院（nist）认证过；3、采用plc控制，速度可调节，在启动之后一般工艺先以低速运转使胶摊开，然后自动变到高速运转，步骤转速及相应的时间分别可调；4、数据模拟：匀胶实验时将一组设定的涂胶速度和时长数值输入系统，系统会据此计算出速度设定方案。
更新时间:2024-12-30
m-spin200匀胶旋涂仪是用于均匀涂覆和干燥晶圆片或衬底。该匀胶旋涂仪适用于直径最大为8英寸的晶圆片，或为6英寸x6英寸的衬底。它可使用分配臂全自动工作，分配移动托盘，可定义数量。该匀胶旋涂仪配备了顶盖的联锁机制，和可视化全图形触摸面板。m-spin200匀胶旋涂仪包含一个内置模块，该模块连接到柔性电缆，外接到一个19英寸外部控件上。
更新时间:2024-12-30
basixxst20+（?200毫米）台式旋涂机，带电动介质臂basixxst20（?200毫米）台式旋涂机basixxst20+实验室台式匀胶机是一款紧凑的旋涂，显影，清洁和干燥半自动系统，旨在为科学和研究领域的用户提供高效，安全和清洁的实验室系统。
更新时间:2024-12-30
新升级的美国alliedmultiprep高精密研磨系统，采用7寸lcd触摸屏完成所有操作，研磨系统精度能够达到1um，适用于高精密（金相，sem，tem，afm等）样品的前处理multiprep?系统适用于高精密（金相，sem，tem，afm等）样品的半自动准备加工。
更新时间:2024-12-30
激光开封技术也可以在不破坏芯片或者电路的整体功能的前提下，去除局部的塑封材料，进行测试甚至修复实验。与化学开封技术相比，激光开封更加高效，同时避免了减少强酸环境暴露。基本原理：芯片激光开封机的工作原理是利用高能激光蚀刻掉芯片或者电子元器件的塑封外壳，从而光学观测或者电气性能测试提供了可能性，以便于实现x射线等无损检测无法实现的功能。
更新时间:2024-12-30
波诱导式等离子芯片开封系统----plasmaetch无论是传统的金线样品，还是样品都采用铜线或银线，plasmaetch都能提供安全可靠的蚀刻。
更新时间:2024-12-30
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