GCMS-QP2010(S) 标准离子源元件

gcms-qp2010(s) 标准离子源元件描述如下：

价格：电议 型号：225-10434-92,225-01068 所在地：北京北京市

GCMS-QP2010 离子源单元（CI/NCI）

gcms-qp2010 离子源单元（ci/nci）描述如下：

价格：电议 型号：225-10617-91,034-01602-31 所在地：北京北京市

GCMS-QP5050 离子源标准配件（GCMS）

gcms-qp5050 离子源标准配件（gcms）描述如下：

价格：电议 型号：225-01054,225-02446-91 所在地：北京北京市

上海伯东代理美国原装进口 KRI 霍尔离子源 eH 3000

上海伯东代理美国原装进口 kri 霍尔离子源 eh 3000 适合大型真空系统, 与友厂大功率离子源对比, eh 3000 是目市场上高效, 提供更高离子束流的离子源.

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上海伯东代理美国原装进口 KRI 霍尔离子源 eH 1000

上海伯东代理美国原装进口 kri 霍尔离子源 eh 1000, 低成本设计提供高离子电流, 特别适合中型真空系统. 通常应用于离子辅助镀膜, 预清洗和低能量离子蚀刻.

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上海伯东代理美国原装进口 KRI 考夫曼型离子源 RFICP 100

上海伯东代理美国原装进口 kri 考夫曼型离子源 rficp 100 紧凑设计, 适用于离子溅镀和离子蚀刻. 小尺寸设计但是可以输出 >400 ma 离子流. 考夫曼型离子源 rficp 100 源直

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上海伯东代理美国原装进口 KRI 霍尔离子源 eH 2000

上海伯东代理美国原装进口 kri 霍尔离子源 eh 2000 是一款更强大的版本, 带有水冷方式, 他具备 eh 1000 所有的性能, 低成本设计提供高离子电流, 特别适合大中型真空系统. 通常应用

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上海伯东代理美国原装进口 KRI 霍尔离子源 eH 400

上海伯东代理美国原装进口 kri 霍尔离子源 eh 400 低成本设计提供高离子电流, 霍尔离子源 eh 400 尺寸和离子能量特别适合中小型的真空系统, 可以控制较低的离子能量, 通常应用于离子辅助

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上海伯东代理美国原装进口 KRI考夫曼离子源 KDC 40

上海伯东代理美国原装进口 kri 考夫曼离子源 kdc 40: 小型低成本直流栅离子源. kdc 40 是 3cm 考夫曼型离子源升款. 具有更大的栅, 更坚固, 可以配置自对准第三层栅. 离子源 k

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上海伯东代理美国原装进口 KRI 考夫曼离子源 KDC 10

上海伯东代理美国原装进口 kri 考夫曼离子源 kdc 10: 考夫曼型离子源 gridded 系列小型号的离子源. 适用于集成在小型的真空设备中, 例如预清洗, 离子溅射, 离子蚀刻. 在 <100

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上海伯东代理美国原装进口 KRI 考夫曼离子源 KDC 75

上海伯东代理美国原装进口 kri 考夫曼离子源 kdc 75:紧凑栅离子源,离子束直径 14 cm ,可安装在 8“cf法兰. 适用于中小型腔内, 考夫曼离子源 kdc 75 包含2个阴灯丝, 其中一

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上海伯东代理美国原装进口 KRI 射频离子源 RFICP 140

上海伯东代理美国原装进口 kri 射频离子源 rficp 140 是一款紧凑的有栅离子源, 非常适用于离子束溅射沉积, 离子辅助沉积和离子束刻蚀. 在离子束溅射工艺中，射频离子源 rficp 140

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